Příprava optických tenkých vrstev metodou depozice z chemických par

Simple item page
but.committeeprof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (místopředseda) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. Ing. Jan Čechal, Ph.D. (člen) prof. Ing. Miroslav Kolíbal, Ph.D. (člen) doc. Mgr. Vlastimil Křápek, Ph.D. (člen) doc. Ing. Stanislav Průša, Ph.D. (člen) doc. Ing. Radek Kalousek, Ph.D. (člen) doc. Ing. Miroslav Bartošík, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)cs
but.defencePo otázkách oponenta bylo dále diskutováno: Doba růztu vrstev ALD. Student na otázky odpověděl.cs
but.jazykčeština (Czech)
but.programFyzikální inženýrství a nanotechnologiecs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorKolíbal, Miroslavcs
dc.contributor.authorKoryčánek, Adamcs
dc.contributor.refereeKvapil, Michalcs
dc.date.created2024cs
dc.description.abstractTato práce se zaměřuje na porovnání metod fyzikální depozice tenkých antireflexních vrstev s metodami depozice s chemických par (CVD), pro aplikace v oblasti optiky. Nejprve jsou zahrnuty základní pojmy a principy související s antireflexními vrstvami, jejich depozicí a charakterizací. Dále v experimentální části jsou použity techniky elipsometrie, rastrovací sondové mikroskopie (AFM) a rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS) k charakterizaci vlastností a porovnání vrstev.cs
dc.description.abstractThis work is focused on the comparison between physical vapor deposition methods of thin antireflective layers and chemical vapor deposition (CVD) methods, for applications in the field of optics. The work begins with basic concepts and principles related to anti-reflective coatings, their deposition and characterization. Furthermore, in the experimental part, the techniques of ellipsometry, atomic force microscopy (AFM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) are used to characterize the properties of the layers and their comparison.en
dc.description.markCcs
dc.identifier.citationKORYČÁNEK, A. Příprava optických tenkých vrstev metodou depozice z chemických par [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2024.cs
dc.identifier.other158074cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/248269
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrstvícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectantireflexní vrstvycs
dc.subjectdepozice atomárních vrstevcs
dc.subjectdepozice z plynné fázecs
dc.subjectelipsometriecs
dc.subjectrastrovací sondová mikroskopiecs
dc.subjectrentgenová fotoelektronová spektroskopiecs
dc.subjectoxid hafničitýcs
dc.subjectoxid titaničitýcs
dc.subjectantireflective layersen
dc.subjectatomic layer depositionen
dc.subjectphysical vapor depositionen
dc.subjectellipsometryen
dc.subjectatomic force microscopyen
dc.subjectx-ray photoelectron spectroscopyen
dc.subjecthafnium oxideen
dc.subjecttitanium oxideen
dc.titlePříprava optických tenkých vrstev metodou depozice z chemických parcs
dc.title.alternativePreparation of optical thin films by chemical vapor depositionen
dc.typeTextcs
dc.type.driverbachelorThesisen
dc.type.evskpbakalářská prácecs
dcterms.dateAccepted2024-06-13cs
dcterms.modified2024-06-18-08:45:12cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta strojního inženýrstvícs
sync.item.dbid158074en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2025.03.26 08:20:48en
sync.item.modts2025.01.15 21:18:41en
thesis.disciplinebez specializacecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrstvícs
thesis.levelBakalářskýcs
thesis.nameBc.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 2 of 2
Thumbnail Image
Name:
final-thesis.pdf
Size:
6.78 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
file final-thesis.pdf
Download
Thumbnail Image
Name:
review_158074.html
Size:
11.56 KB
Format:
Hypertext Markup Language
Description:
file review_158074.html
Download
Collections
2024