Příprava optických tenkých vrstev metodou depozice z chemických par
Loading...
Date
Authors
Koryčánek, Adam
Advisor
Referee
Mark
C
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
ORCID
Abstract
Tato práce se zaměřuje na porovnání metod fyzikální depozice tenkých antireflexních vrstev s metodami depozice s chemických par (CVD), pro aplikace v oblasti optiky. Nejprve jsou zahrnuty základní pojmy a principy související s antireflexními vrstvami, jejich depozicí a charakterizací. Dále v experimentální části jsou použity techniky elipsometrie, rastrovací sondové mikroskopie (AFM) a rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS) k charakterizaci vlastností a porovnání vrstev.
This work is focused on the comparison between physical vapor deposition methods of thin antireflective layers and chemical vapor deposition (CVD) methods, for applications in the field of optics. The work begins with basic concepts and principles related to anti-reflective coatings, their deposition and characterization. Furthermore, in the experimental part, the techniques of ellipsometry, atomic force microscopy (AFM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) are used to characterize the properties of the layers and their comparison.
This work is focused on the comparison between physical vapor deposition methods of thin antireflective layers and chemical vapor deposition (CVD) methods, for applications in the field of optics. The work begins with basic concepts and principles related to anti-reflective coatings, their deposition and characterization. Furthermore, in the experimental part, the techniques of ellipsometry, atomic force microscopy (AFM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) are used to characterize the properties of the layers and their comparison.
Description
Keywords
antireflexní vrstvy , depozice atomárních vrstev , depozice z plynné fáze , elipsometrie , rastrovací sondová mikroskopie , rentgenová fotoelektronová spektroskopie , oxid hafničitý , oxid titaničitý , antireflective layers , atomic layer deposition , physical vapor deposition , ellipsometry , atomic force microscopy , x-ray photoelectron spectroscopy , hafnium oxide , titanium oxide
Citation
KORYČÁNEK, A. Příprava optických tenkých vrstev metodou depozice z chemických par [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2024.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
bez specializace
Comittee
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda)
prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (místopředseda)
prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen)
prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen)
prof. Ing. Jan Čechal, Ph.D. (člen)
prof. Ing. Miroslav Kolíbal, Ph.D. (člen)
doc. Mgr. Vlastimil Křápek, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Stanislav Průša, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Radek Kalousek, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Miroslav Bartošík, Ph.D. (člen)
RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)
Date of acceptance
2024-06-13
Defence
Po otázkách oponenta bylo dále diskutováno:
Doba růztu vrstev ALD.
Student na otázky odpověděl.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena