Elektrostatické vychylovací a korekční systémy

Abstract

Tato diplomová práce se věnuje prozkoumání možností dynamické korekce vad v elektronové litografii. Pro výpočty byl zvolen elektronový litograf BS600. Práce se zabývá korekcí vad vychýlení třetího řádu: zklenutí pole, astigmatismu a zkreslení. Aberace byly spočteny jak pro současný magnetický vychyolvací systém, tak pro nově navržený elektrostatický deflektor. Vlastnosti a vady obou vychylovacích a korekčních systémů byly porovnány.The aim of this master's thesis is to explore and study dynamic aberration correction options in electron-beam lithography systems. For the calculations, the thesis uses the optical column of the BS600 electron-beam writer. The thesis focuses on corrections of the third order field curvature, astigmatism, and distortion aberrations of the currently used magnetic deflection system and a newly designed electrostatic deflection system. The parameters of the two deflection and correction systems were compared.