Nanoelektrody pro biofyzikální měření
Loading...
Date
Authors
Márik, Marian
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
ORCID
Abstract
Cílem projektu je návrh nanoelektrody na zadanou křemíkovou desku s dopředu určenými přísadami a tenkovstvými technikami v kombinaci litografie a nanotechniky, vyvinutými v LabSensNano. Práce se zabývá hlavně procesem litografie a před procesní přípravou křemíkové desky. Dále je uveden stručný návrh elektrod, návrh pro realizaci a stav praktické experimentace.
The aim of the project is formation of nanoelectrodes on the silicon wafer surface by thin-film techniques combined with lithography and nanotechniques developed in LabSensNano. Project is engaged in lithography and in preparation of silicon wafers. Furthermore is proposed a brief proposal of electrodes, proposal of realization and current state of the experiment.
The aim of the project is formation of nanoelectrodes on the silicon wafer surface by thin-film techniques combined with lithography and nanotechniques developed in LabSensNano. Project is engaged in lithography and in preparation of silicon wafers. Furthermore is proposed a brief proposal of electrodes, proposal of realization and current state of the experiment.
Description
Keywords
Litografie , fotorezist , čištění , nanoelektrody , maskování , vlnová délka , vyvolání , leptání , anodizace , depozice , Lithography , photo resist , cleaning , nanoelectrodes , masking , wave length , developing , etching , anodizing , deposition
Citation
MÁRIK, M. Nanoelektrody pro biofyzikální měření [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2011.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Mikroelektronika a technologie
Comittee
prof. Ing. Dalibor Biolek, CSc. (předseda)
Ing. Daniel Bečvář, Ph.D. (místopředseda)
doc. Ing. Pavel Šteffan, Ph.D. (člen)
Ing. Jiří Špinka (člen)
doc. Ing. Pavel Legát, CSc. (člen)
Date of acceptance
2011-06-13
Defence
Student seznámil komisi s řešením své bakalářské práce a zodpověděl následující dotazy.
Myslíte si, že odstraňování rezistu SU-8 pomocí plazmatického leptání je vhodné, neexistuje i jiná šetrnější metoda?
V kap. 6.3.5 uvádíte vyrobenou porézní masku. Co tedy zabránilo finální depozici nanodrátků, popř. jaký postup byste navrhl pro úspěšnou finalizaci projektu? V závěru k tomu uvádíte "optimalizaci času", vysvětlete prosím.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
