Korelativní zobrazování magnetického uspořádání v antiferomagnetech

Abstract

Zobrazování antiferomagnetických (AF) struktur je limitováno tím, že tyto materiály mají nulovou magnetizaci. Vhodným přístupem k zobrazování AF materiálů je korelace výstupu z několika zobrazovacích technik zároveň. V této práci byly pozorovány tenké vrstvy oxidu nikelnatého (NiO), u kterého lze při zobrazování využít silné vazby mezi AF uspořádáním a strukturou. Tato vazba se projevuje distorzí mřížky NiO, která přispívá k magnetooptické (MO) odezvě. Snímky z polarizačního (POL) mikroskopu byly v rámci této práce využity jako reference pro korelaci s výstupy technik využívajících rastrovací (SEM) a transmisní (TEM) elektronový mikroskop. Při zobrazování NiO pomocí SEMu bylo využito distorze k získání kanálovacího kontrastu (technika ECCI). Z korelace signálů z POL mikroskopu a SEMu vyplynulo navýšení rozlišení AF struktur při použití ECCI techniky v SEMu. Během zobrazování NiO v TEMu byl zvolen přístup založený na anizotropii neelastického rozptylu elektronů po dopadu na vzorek. Tato anizotropie indikuje směr Néelova vektoru v zobrazované oblasti.Imaging of antiferromagnetic (AF) structures is limited by the fact that these materials have zero magnetization. A suitable approach to imaging AF materials is to correlate the output of several imaging techniques simultaneously. In this work, thin films of nickel oxide (NiO) were observed, for which strong coupling between AF arrangement and structure can be used in imaging. This coupling causes distortion of the NiO lattice, which contributes to the magneto-optical (MO) response. The polarizing (POL) microscope images were used as a reference in this work to correlate with the output of techniques using scanning electron microscopy (SEM) and transmission electron microscopy (TEM). In the SEM imaging of NiO, distortion was used to obtain channeling contrast (ECCI technique). Correlation of the signals from the POL microscope and SEM showed an increase in the resolution of the AF structures when using the ECCI technique in SEM. During the imaging of NiO in TEM, an approach based on the anisotropy of inelastic electron scattering upon impact with the sample was chosen. This anisotropy indicates the direction of the Néel vector in the imaged region.