Charakterizace adheze tenkých vrstev plazmových polymerů

Abstract

Diplomová práca sa zaoberá charakterizáciou adhézie tenkých vrstiev plazmových polymérov na plošných kremíkových substrátoch. Použité vzorky zahrňovali organosilikonové filmy na bázi monoméru tetravinylsilánu pripravené plazmochemickou depozíciou z plynnej fázy. Zvolenou metódou charakterizácie adhezie bola vrypová skúška. Pre testy adhézie filmov bolo použité nanoindentačné zariadenie. Na základe nameraných signálov normálových, laterálnych síl a frikčného koeficientu, ako aj snímok vrypov získaných skenovacím sondovým mikroskopom pracujúcim v režime mikroskopie atomárnych síl, bola popísaná a posúdená adhézia niekoľkých vzorkov plazmových polymérov líšiacich sa mechanickými vlastnosťami a hrúbkou filmu.The diploma thesis deals with characterization of adhesion of plasma polymer films deposited on silicon wafers. The samples included organosilicon thin films based on tetravinylsilane monomer prepared by plasma-enhanced chemical vapour deposition. Scratch test was used to characterize film adhesion employing nanoindentation measurements. Adhesion of plasma polymer films of different mechanical properties and film thickness was analyzed by normal and lateral forces, friction coefficient, and scratch images obtained by scanning probe microscope working in atomic force microscopy mode.