Tvorba motivů tenkovrstvými metodami
| but.committee | doc. Ing. Jiří Maxa, Ph.D. (předseda) prof. Ing. Vojtěch Koráb, Dr., MBA (místopředseda) Ing. Zdenka Rozsívalová (člen) Ing. Petr Dvořák, Ph.D. (člen) prof. Ing. Jiří Vondrák, DrSc. (člen) | cs |
| but.defence | 1) Popiste strukturu trielektrodove sablony uvedene v diplomove praci. 2) Pojmenujte elektrody v trielektrodovem sytemu. 3) Vyjádřete se ke vytahu rozliseni naprasovacího zařízeni a rozlišení které jsme schopni dosáhnout v nasich laboratornich podminkach pri tvorbe motivu. | cs |
| but.jazyk | čeština (Czech) | |
| but.program | Elektrotechnika, elektronika, komunikační a řídicí technika | cs |
| but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
| dc.contributor.advisor | Šubarda, Jiří | cs |
| dc.contributor.author | Ondráček, Michal | cs |
| dc.contributor.referee | Šimonová, Lucie | cs |
| dc.date.created | 2014 | cs |
| dc.description.abstract | Diplomová práce se zabývá teorií technologie tenkých vrstev, zejména vytvářením těchto vrstev. Dále práce obsahuje rozdělení vakuových depozičních technik na fyzikální (PVD) a chemické (CVD). Hlavním cílem práce je vytvořit motivy různými způsoby realizace pomocí magnetronového naprašovacího zařízení a tyto motivy vyhodnotit z hlediska kvality naprášení. | cs |
| dc.description.abstract | The master’s thesis deals with the theory of thin film technology, especially creating these layers. The work includes the distribution of vacuum deposition techniques for physical (PVD) and chemical (CVD). The main aim is to create a theme in different ways of implementation by using magnetron sputtering device, and these motives evaluated in terms of the quality of sputtering. | en |
| dc.description.mark | B | cs |
| dc.identifier.citation | ONDRÁČEK, M. Tvorba motivů tenkovrstvými metodami [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2014. | cs |
| dc.identifier.other | 74371 | cs |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/32575 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií | cs |
| dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
| dc.subject | Tenká vrstva | cs |
| dc.subject | tenkovrstvá technologie | cs |
| dc.subject | fyzikální depozice vrstev (PVD) | cs |
| dc.subject | chemická depozice vrstev (CVD) | cs |
| dc.subject | magnetronové naprašování | cs |
| dc.subject | struktury | cs |
| dc.subject | Thin film | en |
| dc.subject | thin film technology | en |
| dc.subject | physical vapour deposition (PVD) | en |
| dc.subject | chemical vapour deposition (CVD) | en |
| dc.subject | Magnetron Sputtering | en |
| dc.subject | structure | en |
| dc.title | Tvorba motivů tenkovrstvými metodami | cs |
| dc.title.alternative | Creating themes thin-film methods | en |
| dc.type | Text | cs |
| dc.type.driver | masterThesis | en |
| dc.type.evskp | diplomová práce | cs |
| dcterms.dateAccepted | 2014-06-10 | cs |
| dcterms.modified | 2014-06-13-12:06:34 | cs |
| eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií | cs |
| sync.item.dbid | 74371 | en |
| sync.item.dbtype | ZP | en |
| sync.item.insts | 2025.03.26 13:14:44 | en |
| sync.item.modts | 2025.01.17 14:50:28 | en |
| thesis.discipline | Elektrotechnická výroba a management | cs |
| thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav elektrotechnologie | cs |
| thesis.level | Inženýrský | cs |
| thesis.name | Ing. | cs |