Tvorba motivů tenkovrstvými metodami
Loading...
Date
Authors
Ondráček, Michal
Advisor
Referee
Mark
B
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
ORCID
Abstract
Diplomová práce se zabývá teorií technologie tenkých vrstev, zejména vytvářením těchto vrstev. Dále práce obsahuje rozdělení vakuových depozičních technik na fyzikální (PVD) a chemické (CVD). Hlavním cílem práce je vytvořit motivy různými způsoby realizace pomocí magnetronového naprašovacího zařízení a tyto motivy vyhodnotit z hlediska kvality naprášení.
The master’s thesis deals with the theory of thin film technology, especially creating these layers. The work includes the distribution of vacuum deposition techniques for physical (PVD) and chemical (CVD). The main aim is to create a theme in different ways of implementation by using magnetron sputtering device, and these motives evaluated in terms of the quality of sputtering.
The master’s thesis deals with the theory of thin film technology, especially creating these layers. The work includes the distribution of vacuum deposition techniques for physical (PVD) and chemical (CVD). The main aim is to create a theme in different ways of implementation by using magnetron sputtering device, and these motives evaluated in terms of the quality of sputtering.
Description
Citation
ONDRÁČEK, M. Tvorba motivů tenkovrstvými metodami [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2014.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Elektrotechnická výroba a management
Comittee
doc. Ing. Jiří Maxa, Ph.D. (předseda)
prof. Ing. Vojtěch Koráb, Dr., MBA (místopředseda)
Ing. Zdenka Rozsívalová (člen)
Ing. Petr Dvořák, Ph.D. (člen)
prof. Ing. Jiří Vondrák, DrSc. (člen)
Date of acceptance
2014-06-10
Defence
1) Popiste strukturu trielektrodove sablony uvedene v diplomove praci.
2) Pojmenujte elektrody v trielektrodovem sytemu.
3) Vyjádřete se ke vytahu rozliseni naprasovacího zařízeni a rozlišení které jsme schopni dosáhnout v nasich laboratornich podminkach pri tvorbe motivu.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena