Příprava a charakterizace vzorků pro studium vlivu povrchových plasmonových polaritonů na růst ostrůvků na površích

Simple item page
but.committeeprof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)cs
but.jazykčeština (Czech)
but.programAplikované vědy v inženýrstvícs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorČechal, Jancs
dc.contributor.authorZávodný, Adamcs
dc.contributor.refereeKolíbal, Miroslavcs
dc.date.created2014cs
dc.description.abstractTato bakalářská práce se zabývá přípravou a studiem růstu tenkých vrstev kobaltu a termální stabilitou multivrstvy Al2O3/Au/SiO2/Si. Jako substrát pro růst tenkých vrstev byl použit krystalický křemík povrchově upraven dvěma způsoby: SiO2/Si(111) a Al2O3/SiO2/Si(111). Růst vrstev byl prováděn pomocí efuzní cely. Růst kobaltových vrstev je zkoumán v závislosti na depoziční teplotě substrátu, typu substrátu a množství deponovaného materiálu. Připravené vrstvy jsou studovány použitím rentgenové fotoelektronové spektroskopie, rastrovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil.cs
dc.description.abstractThis bachelor's thesis deals with preparation and analysis of cobalt thin films and determination of the thermal stability of Al2O3/Au/SiO2/Si multilayer. The films are formed on the crystalline silicon with oxide surface layer, i.e. SiO2/Si(111) and Al2O3/SiO2/Si(111). Thin films are prepared using an effusion cell and their growth is studied as a function of substrate temperature, type and layer thickness. Prepared samples are studied by the X-ray Photoelectron Spectroscopy, Scanning Electron Microscopy and Atomic Force Microscopy.en
dc.description.markAcs
dc.identifier.citationZÁVODNÝ, A. Příprava a charakterizace vzorků pro studium vlivu povrchových plasmonových polaritonů na růst ostrůvků na površích [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2014.cs
dc.identifier.other72604cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/33356
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrstvícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectkobaltcs
dc.subjectkřemíkcs
dc.subjectoxid křemičitýcs
dc.subjectoxid hlinitýcs
dc.subjectrůst tenkých vrstevcs
dc.subjectMBEcs
dc.subjectXPScs
dc.subjectSEMcs
dc.subjectAFMcs
dc.subjectcobalten
dc.subjectsiliconen
dc.subjectsilicon dioxideen
dc.subjectaluminium oxideen
dc.subjectthin film growthen
dc.subjectMBEen
dc.subjectXPSen
dc.subjectSEMen
dc.subjectAFMen
dc.titlePříprava a charakterizace vzorků pro studium vlivu povrchových plasmonových polaritonů na růst ostrůvků na površíchcs
dc.title.alternativePreparation and characterization of samples for a study on the effect of surface plasmon polaritons on island growth on surfacesen
dc.typeTextcs
dc.type.driverbachelorThesisen
dc.type.evskpbakalářská prácecs
dcterms.dateAccepted2014-06-25cs
dcterms.modified2014-06-26-14:01:11cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta strojního inženýrstvícs
sync.item.dbid72604en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2025.03.26 06:42:19en
sync.item.modts2025.01.17 15:04:34en
thesis.disciplineFyzikální inženýrství a nanotechnologiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrstvícs
thesis.levelBakalářskýcs
thesis.nameBc.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 2 of 2
Thumbnail Image
Name:
final-thesis.pdf
Size:
4.24 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
final-thesis.pdf
Download
Thumbnail Image
Name:
review_72604.html
Size:
8.05 KB
Format:
Hypertext Markup Language
Description:
file review_72604.html
Download
Collections
2014