Příprava a charakterizace vzorků pro studium vlivu povrchových plasmonových polaritonů na růst ostrůvků na površích

Abstract

Tato bakalářská práce se zabývá přípravou a studiem růstu tenkých vrstev kobaltu a termální stabilitou multivrstvy Al2O3/Au/SiO2/Si. Jako substrát pro růst tenkých vrstev byl použit krystalický křemík povrchově upraven dvěma způsoby: SiO2/Si(111) a Al2O3/SiO2/Si(111). Růst vrstev byl prováděn pomocí efuzní cely. Růst kobaltových vrstev je zkoumán v závislosti na depoziční teplotě substrátu, typu substrátu a množství deponovaného materiálu. Připravené vrstvy jsou studovány použitím rentgenové fotoelektronové spektroskopie, rastrovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil.This bachelor's thesis deals with preparation and analysis of cobalt thin films and determination of the thermal stability of Al2O3/Au/SiO2/Si multilayer. The films are formed on the crystalline silicon with oxide surface layer, i.e. SiO2/Si(111) and Al2O3/SiO2/Si(111). Thin films are prepared using an effusion cell and their growth is studied as a function of substrate temperature, type and layer thickness. Prepared samples are studied by the X-ray Photoelectron Spectroscopy, Scanning Electron Microscopy and Atomic Force Microscopy.