Povrchová morfologie a-CSi:H vrstev připravených z tetravinylsilanu v nízkoteplotním plazmatu
| but.committee | doc. Ing. František Šoukal, Ph.D. (předseda) prof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (člen) prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen) prof. Ing. Petr Ptáček, Ph.D. (člen) prof. Ing. Tomáš Svěrák, CSc. (člen) doc. Ing. Lucy Vojtová, Ph.D. (člen) Ing. Lukáš Tvrdík, Ph.D. (člen) | cs |
| but.defence | 1. Studentka seznámila členy komise s teoretickými základy a cíli své bakalářské práce a velmi přehledně přednesla výsledky, kterých dosáhla v experimentální části.2. Byly přečteny posudky na bakalářskou práci.3. Studentka akceptovala všechny připomínky oponenta a na všechny otázky odpověděla v plné šíři.4. Diskuse: Členové komise vznesly několik přípomínek a otázek k práci. Studentka výborně reagovala na všechny připomínky a otázky vzešlé z diskuze a prokázala výbornou orientaci v daném tématu. | cs |
| but.jazyk | čeština (Czech) | |
| but.program | Chemie a chemické technologie | cs |
| but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
| dc.contributor.advisor | Čech, Vladimír | cs |
| dc.contributor.author | Křípalová, Kristýna | cs |
| dc.contributor.referee | Pálesch, Erik | cs |
| dc.date.created | 2019 | cs |
| dc.description.abstract | Tato bakalářská práce se zabývá povrchovou morfologií a-CSi:H vrstev. Tyto vrstvy byly připraveny plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) v pulzním režimu na křemíkových substrátech; jako prekurzor byl použit tetravinylsilan (TVS). Pro charakterizaci povrchu vrstev byla použita série vzorků připravených při různém efektivním výkonu (2-150 W) a tloušťce 0,6 µm. Povrchová morfologie byla měřena pomocí mikroskopie atomárních sil. Získaná data byla použita pro stanovení drsnosti povrchu a posouzení vlivu dynamiky růstu vrstvy na topografii povrchu. | cs |
| dc.description.abstract | This bachelor thesis is focused on the surface morphology of a-CSi:H films. Films were prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) on silicon wafers using plasma discharge. Tetravinylsilane (TVS) precursor was used for deposition. The set of samples deposited at different effective power (2-150 W) and a thickness of about 0.6 µm was characterized to investigate their surface properties. Atomic force microscopy was used for characterization of surface morphology. Obtained results were used for evaluation of surface roughness and assessment of the effect of the film growth dynamics on the surface topography. | en |
| dc.description.mark | A | cs |
| dc.identifier.citation | KŘÍPALOVÁ, K. Povrchová morfologie a-CSi:H vrstev připravených z tetravinylsilanu v nízkoteplotním plazmatu [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2019. | cs |
| dc.identifier.other | 112449 | cs |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/173405 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická | cs |
| dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
| dc.subject | tenké vrstvy | cs |
| dc.subject | PECVD | cs |
| dc.subject | mikroskopie atomárních sil (AFM) | cs |
| dc.subject | povrchová morfologie | cs |
| dc.subject | drsnost povrchu | cs |
| dc.subject | thin films | en |
| dc.subject | PECVD | en |
| dc.subject | atomic force microscopy (AFM) | en |
| dc.subject | surface morphology | en |
| dc.subject | surface roughness | en |
| dc.title | Povrchová morfologie a-CSi:H vrstev připravených z tetravinylsilanu v nízkoteplotním plazmatu | cs |
| dc.title.alternative | Surface morphology of a-CSi:H films prepared from tetravinylsilane in low-temperature plasma | en |
| dc.type | Text | cs |
| dc.type.driver | bachelorThesis | en |
| dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
| dcterms.dateAccepted | 2019-06-11 | cs |
| dcterms.modified | 2024-05-17-12:54:29 | cs |
| eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta chemická | cs |
| sync.item.dbid | 112449 | en |
| sync.item.dbtype | ZP | en |
| sync.item.insts | 2025.03.16 12:52:30 | en |
| sync.item.modts | 2025.01.15 19:22:23 | en |
| thesis.discipline | Chemie, technologie a vlastnosti materiálů | cs |
| thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. Ústav chemie materiálů | cs |
| thesis.level | Bakalářský | cs |
| thesis.name | Bc. | cs |