Barierové vrstvy na bázi SiOx
Loading...
Date
Authors
Sedláček, Ondřej
ORCID
Advisor
Referee
Mark
B
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Abstract
Tématem této práce je příprava a charakterizace tenkých vrstev vytvořených pomocí takových metod, jako je vakuové napařování, vakuové napařování v plazmatu a plazmochemická depozice z plynné fáze. Výchozími materiály pro přípravu těchto vrstev jsou práškový oxid křemíku, melamin a hexamethyldisiloxan. Tyto vrstvy byly připravovány s ohledem na jejich využití, jako bariérové povlaky, a to s důrazem na jejich odolnost vůči organickým otravným látkám. U těchto vrstev byla provedena charakteristika jak z hlediska jejich fyzikálních vlastností - schopnost odolávat permeaci určitých organických látek, tak z hlediska jejich chemického složení. Metody použité pro výše zmíněné charakteristiky jsou: FTIR, OTR, elipsometrie, SEM a měření odolnosti vůči permeaci vybraných průmyslových škodlivin.
The theme of this thesis is based on the preparation and characterization thin films prepared by methods like a Physical Vapor Deposition, Plasma Assisted Vapor Deposition and Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. The elementary materials for the preparation of these layers are silicon monooxide powder, melamine and hexamethyldisiloxane. These layers have been prepared with regards to their usage like a barrier coatings with emphasis on poisonous organic substances resistance.. We made a characterization of these films. This characterization is consist of researching of their physical properties (the ability to resist permeation of certain organic compounds), and their chemical composition too. We used to some specific method for these characteristics, for example: FTIR, OTR, ellipsometry, SEM and measuring of the permeation of selected industrial pollutants resistance.
The theme of this thesis is based on the preparation and characterization thin films prepared by methods like a Physical Vapor Deposition, Plasma Assisted Vapor Deposition and Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. The elementary materials for the preparation of these layers are silicon monooxide powder, melamine and hexamethyldisiloxane. These layers have been prepared with regards to their usage like a barrier coatings with emphasis on poisonous organic substances resistance.. We made a characterization of these films. This characterization is consist of researching of their physical properties (the ability to resist permeation of certain organic compounds), and their chemical composition too. We used to some specific method for these characteristics, for example: FTIR, OTR, ellipsometry, SEM and measuring of the permeation of selected industrial pollutants resistance.
Description
Citation
SEDLÁČEK, O. Barierové vrstvy na bázi SiOx [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2011.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Chemie, technologie a vlastnosti materiálů
Comittee
prof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (předseda)
prof. Ing. Jaromír Havlica, DrSc. (místopředseda)
prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen)
doc. RNDr. Jaroslav Petrůj, CSc. (člen)
prof. Ing. Tomáš Svěrák, CSc. (člen)
Date of acceptance
2011-06-21
Defence
Bakalářská práce se zabývala výzkumem vlastností a depozicí tenkých ochranných vrstev na plastové substráty pro vojenské účely. Byly testovány různé techniky a různé zdrojové chemikálie. Výsledky byly prezentovány poměrně jasně a srozumitelně, otázky oponenta byly zodpovězeny odpovídajícím způsobem.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení