Příprava nanostruktur pomocí mokrého chemického leptání
but.committee | prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen) | cs |
but.jazyk | čeština (Czech) | |
but.program | Aplikované vědy v inženýrství | cs |
but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
dc.contributor.advisor | Kolíbal, Miroslav | cs |
dc.contributor.author | Musálek, Tomáš | cs |
dc.contributor.referee | Šamořil, Tomáš | cs |
dc.date.created | 2014 | cs |
dc.description.abstract | Tato bakalářská práce se zabývá mokrým anizotropním leptáním křemíku a germania. Ukazuje dva možné přístupy tvorby anizotropních leptů a popisuje pomocné práce nutné k samotnému leptání. Jedná se zejména o přípravu masky elektronovou litografií, odleptání SiO2 resp. GeO2 a nanášení kovových částic. | cs |
dc.description.abstract | This bachelor's thesis deals with wet anisotropic etching of silicon and germanium. Two different approaches to the formation of anisotropic etch pits are shown. The supporting activities required for etching procedure are described. Especially, preparation of mask by electron beam litography, etching of SiO2 resp. GeO2 and application of metal particles. | en |
dc.description.mark | A | cs |
dc.identifier.citation | MUSÁLEK, T. Příprava nanostruktur pomocí mokrého chemického leptání [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2014. | cs |
dc.identifier.other | 72515 | cs |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/33361 | |
dc.language.iso | cs | cs |
dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství | cs |
dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
dc.subject | Křemík | cs |
dc.subject | germanium | cs |
dc.subject | anizotropní leptání | cs |
dc.subject | elektronová litografie | cs |
dc.subject | kovové nanočástice. | cs |
dc.subject | Silicon | en |
dc.subject | germanium | en |
dc.subject | anisotropic etching | en |
dc.subject | electron beam litography | en |
dc.subject | metal nanoparticles. | en |
dc.title | Příprava nanostruktur pomocí mokrého chemického leptání | cs |
dc.title.alternative | Fabrication of nanostructures using wet chemical etching | en |
dc.type | Text | cs |
dc.type.driver | bachelorThesis | en |
dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
dcterms.dateAccepted | 2014-06-25 | cs |
dcterms.modified | 2014-06-26-14:01:13 | cs |
eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta strojního inženýrství | cs |
sync.item.dbid | 72515 | en |
sync.item.dbtype | ZP | en |
sync.item.insts | 2025.03.26 06:42:20 | en |
sync.item.modts | 2025.01.15 12:45:52 | en |
thesis.discipline | Fyzikální inženýrství a nanotechnologie | cs |
thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrství | cs |
thesis.level | Bakalářský | cs |
thesis.name | Bc. | cs |