Teplotní stabilita naprašovaných vrstev oxidu yttria
| but.committee | prof. Ing. Jaromír Brzobohatý, CSc. (předseda) doc. Ing. Ladislav Hulenyi, CSc. (místopředseda) doc. Ing. Jaroslav Kadlec, Ph.D. (člen) doc. Ing. Pavel Legát, CSc. (člen) Ing. Zdenka Rozsívalová (člen) | cs |
| but.defence | Student Jiří Krsňák seznámil komisi se svoji bakalařskou prací na téma: Teplotní stabilita naprašovaných vrstev oxidu yttria. Student odpověděl na otázky oponenta - 1) Všechny depozice popsané v práci byly prováděny při tlaku přibližně 1,1 Pa. Proč byl zvolen tento tlak? Jaké změny depozičního procesu lze očekávat při použití menšího depozičního tlaku? 2) Jaké frekvence se používají pro vysokofrekvenční naprašování a proč? Proběhla rozprava k tématu bakalárské práce. | cs |
| but.jazyk | čeština (Czech) | |
| but.program | Elektrotechnika, elektronika, komunikační a řídicí technika | cs |
| but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
| dc.contributor.advisor | Hégr, Ondřej | cs |
| dc.contributor.author | Kršňák, Jiří | cs |
| dc.contributor.referee | Boušek, Jaroslav | cs |
| dc.date.created | 2009 | cs |
| dc.description.abstract | Tato práce se zabývá chováním naprášené tenké vrstvy oxidu yttria po teplotním namáhání. V rámci řešení byly deponovány tenké vrstvy oxidu yttria na křemíkové substráty, které byly vystavovány různým cyklům teplotního namáhání. Testované struktury byly zkoumány před a po teplotním namáhání z hlediska stability povrchové topografie za pomoci elektronové mikroskopie. | cs |
| dc.description.abstract | This work deals with behavior of deposited yttrium oxide thin film after heat stress. Within solution thin yttrium oxide films were deposited at silicon substrates, which were exposed to various cycles of heat stress. Tested structures were investigated before and after heat stress in term of surface topography stability with the hepl of electron microscopy. | en |
| dc.description.mark | D | cs |
| dc.identifier.citation | KRŠŇÁK, J. Teplotní stabilita naprašovaných vrstev oxidu yttria [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2009. | cs |
| dc.identifier.other | 22424 | cs |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/901 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií | cs |
| dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
| dc.subject | magnetronové naprašování | cs |
| dc.subject | vysokofrekvenční naprašování | cs |
| dc.subject | oxid yttria | cs |
| dc.subject | rastrovací elektronový mikroskop | cs |
| dc.subject | magnetron sputtering | en |
| dc.subject | radiofrequency sputtering | en |
| dc.subject | yttrium oxide | en |
| dc.subject | scanning electron microscopy | en |
| dc.title | Teplotní stabilita naprašovaných vrstev oxidu yttria | cs |
| dc.title.alternative | Thermal stability of sputtered yttrium oxide layers | en |
| dc.type | Text | cs |
| dc.type.driver | bachelorThesis | en |
| dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
| dcterms.dateAccepted | 2009-06-11 | cs |
| dcterms.modified | 2009-07-07-11:45:17 | cs |
| eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií | cs |
| sync.item.dbid | 22424 | en |
| sync.item.dbtype | ZP | en |
| sync.item.insts | 2025.03.16 13:13:16 | en |
| sync.item.modts | 2025.01.15 21:20:58 | en |
| thesis.discipline | Mikroelektronika a technologie | cs |
| thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav mikroelektroniky | cs |
| thesis.level | Bakalářský | cs |
| thesis.name | Bc. | cs |