Návrh nového termálního disociačního zdroje kyslíkových atomů
but.committee | prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen) | cs |
but.defence | cs | |
but.jazyk | čeština (Czech) | |
but.program | Aplikované vědy v inženýrství | cs |
but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
dc.contributor.advisor | Mach, Jindřich | cs |
dc.contributor.author | Šikula, Marek | cs |
dc.contributor.referee | Bábor, Petr | cs |
dc.date.accessioned | 2019-11-27T20:13:01Z | |
dc.date.available | 2019-11-27T20:13:01Z | |
dc.date.created | 2013 | cs |
dc.description.abstract | Pomocí atomárních zdrojů kyslíku se vyrábí a studují ultratenké oxidové vrstvy, především tzv. high-k vrstvy. Ty jsou základem CMOS tranzistorů a DRAM kondenzátorů. Tato práce zpracovává teorii atomárních svazků kyslíku a způsoby jejich získání. Na základě těchto podkladů je vytvořen konstrukční návrh unikátního typu disociačního atomárního zdroje kyslíku. Návrh byl testován jednoduchými experimenty. Dale je vypracován 3D model zdroje a kompletní výkresová dokumentace. | cs |
dc.description.abstract | Ultrathin oxid layers (especially high-k layers) are studied and fabricated by using atomic oxygen sources. These high-k ultrathin layers are integrated into CMOS transistors and DRAM capacitors. In this thesis theory of atomic oxygen beams and ways of theirs creation is summarized. On the basis of the obtained knowledge the engineering design of a unique type of the thermal atomic oxygen source is created. The design was tested by simple experiments. The 3D model and complete engineering drawings are included. | en |
dc.description.mark | A | cs |
dc.identifier.citation | ŠIKULA, M. Návrh nového termálního disociačního zdroje kyslíkových atomů [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2013. | cs |
dc.identifier.other | 64815 | cs |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/27962 | |
dc.language.iso | cs | cs |
dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství | cs |
dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
dc.subject | Termální disociace | cs |
dc.subject | termální zdroj | cs |
dc.subject | iontová vodivost | cs |
dc.subject | atomární kyslík | cs |
dc.subject | termální svazky atomů kyslíku | cs |
dc.subject | ZrO2 keramiky | cs |
dc.subject | Thermal dissociation | en |
dc.subject | thermal source | en |
dc.subject | ionic conductivity | en |
dc.subject | atomic oxygen | en |
dc.subject | thermal beams of oxygen atoms | en |
dc.subject | ZrO2 caramics | en |
dc.title | Návrh nového termálního disociačního zdroje kyslíkových atomů | cs |
dc.title.alternative | Design of the new type of thermal atomic source for oxygen atoms | en |
dc.type | Text | cs |
dc.type.driver | bachelorThesis | en |
dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
dcterms.dateAccepted | 2013-06-19 | cs |
dcterms.modified | 2013-06-24-12:06:48 | cs |
eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta strojního inženýrství | cs |
sync.item.dbid | 64815 | en |
sync.item.dbtype | ZP | en |
sync.item.insts | 2021.11.12 19:06:43 | en |
sync.item.modts | 2021.11.12 18:40:18 | en |
thesis.discipline | Fyzikální inženýrství a nanotechnologie | cs |
thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrství | cs |
thesis.level | Bakalářský | cs |
thesis.name | Bc. | cs |
Files
Original bundle
1 - 3 of 3
Loading...
- Name:
- final-thesis.pdf
- Size:
- 8.07 MB
- Format:
- Adobe Portable Document Format
- Description:
- final-thesis.pdf
Loading...
- Name:
- review_64815.html
- Size:
- 8.2 KB
- Format:
- Hypertext Markup Language
- Description:
- review_64815.html