Plasmochemické úpravy oxidických polovodičových fotoanod
Loading...
Date
Authors
ORCID
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Abstract
Diplomová práca sa zaoberá plazmochemickou úpravou fotoanód, ktoré sú tvorené aktívnou vrstvou, obsahujúcou TiO2, deponovanou na dvoch rôznych substrátoch pomocou techniky materiálovej tlače. Pre proces plazmochemickej úpravy bola použitá nízkoteplotná atmosférická plazma, využívajúca difúzny koplanárny povrchový bariérový výboj (DCSBD). Experimentálna časť je zameraná na skúmanie vplyvu DCSBD na zhotovené fotoanódy, ktoré obsahujú rôzny počet aktívnych vrstiev, v závislosti na dĺžke pôsobenia plazmochemickej úpravy. Zároveň bola vykonaná optimalizácia procesu, nastavovaním výšky elektródy, na ktorej sa generuje DCSBD. Pre elektrochemickú charakterizáciu vrstiev bola použitá lineárna voltampérometria a chronoampérometria.
This diploma thesis deals with a plasmochemical treatment of photoanodes with an active layer containing TiO2 deposited on two different substrates by material printing. The plasmochemical treatment was performed by a low-temperature ambient-air plasma using a diffuse coplanar surface barrier discharge (DCSBD). The experimental part is focused on the investigation of DCSBD influence on the fabricated photoanodes photoelectrochemical properties, and the influence of plasma treatment time. Process optimization was achieved by height adjustment of the electrode. The processed coatings were electrochemically investigated by linear sweep voltammetry and chronoamperometry.
This diploma thesis deals with a plasmochemical treatment of photoanodes with an active layer containing TiO2 deposited on two different substrates by material printing. The plasmochemical treatment was performed by a low-temperature ambient-air plasma using a diffuse coplanar surface barrier discharge (DCSBD). The experimental part is focused on the investigation of DCSBD influence on the fabricated photoanodes photoelectrochemical properties, and the influence of plasma treatment time. Process optimization was achieved by height adjustment of the electrode. The processed coatings were electrochemically investigated by linear sweep voltammetry and chronoamperometry.
Description
Citation
ĎURAŠOVÁ, Z. Plasmochemické úpravy oxidických polovodičových fotoanod [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2018.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Spotřební chemie
Comittee
prof. Ing. Miloslav Pekař, CSc. (předseda)
prof. Ing. Michal Veselý, CSc. (místopředseda)
doc. Ing. Karel Friess, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Zdenka Kozáková, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Irena Kratochvílová, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Marián Lehocký, Ph.D. (člen)
Date of acceptance
2018-05-31
Defence
Kozáková: Jaký je princip odstranění organických skupin z připravených vrstev?
Jak vypadalo zařízení pro generaci plazmatu?
Pekař: Jak ovlivnilo použití různého typu TiO2 výsledné hodnoty fotoproudu?
Veselý: Z jaké strany byla vedena expozice vrstev UV záření a fungovala by indukce fotoproudu i z druhé strany?
Jaký byl vložený potenciál při měření fotoproudu?
Friess: Jakým způsobem bylo zajištěno přesné nastavení vzdálenosti elektrody od povrchu upravovaných vrstev?
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení