Antireflexní vrstvy metodou depozice z chemických par

Abstract

Táto bakalárska práca sa zaoberá prípravou antireflexných vrstiev pomocou metód depozície z chemickych pár (CVD), konkrétne depozície atomárnych vrstiev (ALD). Vrstvy sú následne charakterizované pomocou elipsometrie, mikroskopie atomárnych síl (AFM) a röntgenovej fotoelektrónovej spektroskopie (XPS). V úvode je predstavený princíp antireflexných vrstiev a popis použitých depozičných metód. Nasleduje prehľad charakterizačných techník. Experimentálna časť sa venuje príprave vrstiev z rôznych materiálov, ich analýze a vyhodnoteniu získaných optických a fyzikálnych vlastností. Záver práce obsahuje zhrnutie hlavných výsledkov a návrh ďalšieho postupu riešenia projektu.

This bachelor's thesis focuses on the preparation of antireflective coatings using chemical vapor deposition (CVD) methods, specifically atomic layer deposition (ALD). The deposited layers are subsequently characterized using ellipsometry, atomic force microscopy (AFM), and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The introductory part presents the principles of antireflective coatings and describes the deposition methods used. This is followed by an overview of the characterization techniques. The experimental section deals with the preparation of layers from various materials, their analysis, and the evaluation of their optical and physical properties. The conclusion summarizes the main results and proposes further steps in the development of the project.