JURÍČEK, A. Antireflexní vrstvy metodou depozice z chemických par [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2025.

Posudek vedoucího

Kolíbal, Miroslav

Andrej Juríček pracoval na tématu, jež je obsahem společného grantu se společností Meopta, s cílem vyvinout funkční recepty pro atomární depozici tenkých vrstev, které budou následně použity k přípravě antireflexních vrstev a budou se svými parametry blížit těm připraveným v Meoptě. Student si rychle a samostatně osvojil jak práci s depoziční aparaturou tak i analytické techniky, které k práci potřeboval. Výborně se vypořádal i s časovou náročností depozic a povedlo se mu standardizovat, případně vylepšit stávající recepty, a zároveň připravit i recept nový (Ta2O5). Konzultace výsledků byly vždy efektivní, student samostatně pracoval s literaturou a prokázal schopnosti vyvozovat závěry ať z literatury či z vlastních výsledků a navrhovat následné kroky. Andrej pracoval pilně i v nestandartních časech. Práci dokončil ve stanoveném termínu, a přes mírně vyšší nutnost korekce prvních verzí volím hodnocení A, neboť bych chtěl ocenit zejména samostatnost studenta při vlastní experimentální práci.

Posudek oponenta

Kvapil, Michal

Student Andrej Juríček se ve své bakalářské práci věnoval přípravě antireflexních vrstev Ta2O5, TiO2, HfO2 a multivrstvy HfO2/Al2O3. Z předložené práce a jejího zpracování je patrné, že si student osvojil depoziční techniku ALD a řadu charakterizačních technik jako jsou spektroskopická elipsometrie, AFM a XPS. Vrstvy, které v rámci své bakalářské práce připravil snesou srovnání s vrstvami připravenými ve společnosti Meopta. Za zmínku také stojí, že drsnost jím připravených vrstev Ta2O5 se pohybovala i kolem pouhých 2 atomárních vrstev. Jednostránková kapitola 3.5 (Depozícia na podložený substrát) bezprostředně předcházející závěru a skládající se ze dvou odstavečků textu a dvou obrázků poněkud kazí celkový dojem z této práce. Student, ač již splnil zadání práce, tak v této kapitole nastiňuje využití jedné z předností techniky ALD, která by díky speciálnímu držáku vzorku měla umožnit deponovat vrstvu z obou stran vzorku zároveň. Z časových důvodů však toto nebylo dotaženo do konce a neproběhla obvyklá obvyklá charakterizace vyrobených vrstev, což ve čtenáři může budit mylný dojem, že student nestihl, co měl zadáno. K předložené práci mám následující faktické výhrady: 1. Na obr. 6 jsou chybně vyznačeny oblasti, ve kterých při interakci povrchu a  měřícího hrotu sondové mikroskopie převládají přitažlivé a odpudivé síly. V referenci, ze které autor čerpal se také vyskytuje chyba, byť poněkud jiná. 2. Pravé strany rovnic (3) a (4), které vyjadřují vztah mezi odrazivostí a Fresnelovými koeficienty, jsou chybně zapsány jako absolutní hodnota druhé mocniny, nikoliv jako kvadrát modulu, tj. druhá mocnina komplexního čísla.  3. Symbol velké Phí v textu nad obr. 10 na str. 15 označuje vstupní práci vzorku, nikoliv výstupní práci spektrometru. 4. Píky XPS na obr. 11 se dle popisu nachází na vazebných energiích 70,4 a 70,5 eV, nicméně z osy grafu je patrné, že levý pík se zjevně nachází na jiné vazebné energii (odhadem 73,5 eV). Z formálních připomínek bych poukázal jen na chybné zaokrouhlování fyzikálních veličin s nejistotami (tab 2., Rms pro Ta2O5 01; tab 4., Rms pro HfO2 66; str. 27, poslední řádek textu nad kapitolou 3.4; poslední řádek popisu obr. 24) a zbytek připojuji do komentáře mimo tento posudek. Celkově předloženou práci doporučuji k obhajobě a hodnotím jako velmi dobrou, tedy klasifikační stupněm B.

eVSKP id 166071