Studium stability hydrogenovaného grafenu

Abstract

Tato bakalářská práce se zabývá studiem stability hydrogenovaného grafenu připraveného metodou chemické depozice z plynné fáze a následně hydrogenovaného pomocí zdroje atomárního vodíku. Takto připravený hydrogenovaný grafen je poté vystaven termálnímu žíhaní, UV záření a elektronovému svazku. Odolnost hydrogenovaného grafenu vůči těmto vlivům je posléze monitorována pomocí Ramanovy spektroskopie. Při termálním žíhání byla pozorována částečná dehydrogenace hydrogenovaného grafenu, zatímco u zbylých dvou metod nebyla dehydrogenace prokázána. U těchto dvou metod byla pozorována pouze postupná degradace hydrogenovaného grafenu. V případě UV záření byl pozorován jeho postupný rozklad, zatímco při exponování elektronovým svazkem docházelo k depozici amorfního uhlíku na jeho povrchu.This bachelor thesis deals with the study of the stability of hydrogenated graphene prepared by chemical vapour deposition and subsequently hydrogenated using an atomic hydrogen source. The hydrogenated graphene is then subjected to thermal annealing, UV irradiation and electron beam. The resistance of the hydrogenated graphene to these treatments is subsequently monitored by Raman spectroscopy. During the thermal annealing, partial dehydrogenation of the hydrogenated graphene was observed, whereas no dehydrogenation was observed for the other two methods. Only gradual degradation of hydrogenated graphene was observed for these two methods. In the case of UV irradiation, its gradual decomposition was observed, while electron beam exposure resulted in the deposition of amorphous carbon on its surface.