Výroba SiC optických metapovrchů
Loading...
Date
Authors
Štálnik, Jozef
ORCID
Advisor
Referee
Mark
B
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstract
Cieľom tejto bakalárske práce bolo optimalizovať výrobný proces SiC metapovrchov, ktoré sa prejavili ako revolučná náhrada klasických optických prvkov, kvôli ich vlastnosti ovládať dopadajúce svetlo vďaka lokálnej fázovej zmene. Ďalej pojednáva o využití karbidu kremíku v ako paltformy pre tieto fotonické zariadenia a experimentálne techniky využité v samotnom procese tvorby metapovrchu. V experimentálne časti sa prezentujú výsledky výroby silikon karbidových nanoštruktúr, kedy hlavným krokom optimalizácie bolo suché leptanie plazmou. Nakonci sa prezentovali optické merania fázového profilu výsledných metapovrchov pomocou mimoosej digitálnej holografie. Hlavným výsledkom tejto práce je vytvorenie knižnice individuálnych stavebných blokov, ktoré budú dôležité budúcej aplikácií.
The aim of this bachelor's thesis was to optimize the manufacturing process of SiC meta-surfaces, which have emerged as a revolutionary replacement for classical optical elements due to their ability to control incident light through local phase modulation. Furthermore, it discusses the utilization of silicon carbide as a platform for these photonic devices and the experimental techniques employed in the meta-surface fabrication process. The experimental section presents the results of silicon carbide nanostructure fabrication, with dry plasma etching being the key optimization step. Finally, optical measurements of the phase profile of the resulting meta-surfaces are presented using off-axis digital holography. The main outcome of this work is the creation of a library of individual building blocks crucial for future applications.
The aim of this bachelor's thesis was to optimize the manufacturing process of SiC meta-surfaces, which have emerged as a revolutionary replacement for classical optical elements due to their ability to control incident light through local phase modulation. Furthermore, it discusses the utilization of silicon carbide as a platform for these photonic devices and the experimental techniques employed in the meta-surface fabrication process. The experimental section presents the results of silicon carbide nanostructure fabrication, with dry plasma etching being the key optimization step. Finally, optical measurements of the phase profile of the resulting meta-surfaces are presented using off-axis digital holography. The main outcome of this work is the creation of a library of individual building blocks crucial for future applications.
Description
Citation
ŠTÁLNIK, J. Výroba SiC optických metapovrchů [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2024.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
sk
Study field
bez specializace
Comittee
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda)
prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (místopředseda)
prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen)
prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen)
prof. Ing. Jan Čechal, Ph.D. (člen)
prof. Ing. Miroslav Kolíbal, Ph.D. (člen)
doc. Mgr. Vlastimil Křápek, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Stanislav Průša, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Radek Kalousek, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Miroslav Bartošík, Ph.D. (člen)
RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)
Date of acceptance
2024-06-14
Defence
Po otázkách oponenta bylo dále diskutováno:
Šířka zakázaného pásu SiC. Vliv defektů na absorbci světla.
Urychlování elektronů v elektronovém litografu.
Student na otázky odpověděl.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení