Studium asymetrických vyhlazených mřížek vytvořených elektronovou litografií

Abstract

Tato práce se zabývá tvorbou vyhlazených asymetrických mřížek s užitím elektronové litografie. Popisuje kompletní postup od přípravy struktur v softwaru, následnou expozici elektronovým litografem až po vyvolání a analyzování kvalitativních i kvantitativních charakteristik vytvořených mřížek. Tyto výsledky jsou následně porovnány s analytickým výpočtem a numerickou simulací.This work deals with fabrication of asymmetric blazed gratings by electron beam lithography. It describes the whole process of structures preparing in software, followed by exposure carried out by an electron beam writer, and it finishes by creating and analysing both qualitative and quantitative characteristics of the fabricated gratings. These results are then compared with analytic calculation and numeric simulation.