but.committee	prof. Ing. Vladislav Musil, CSc. (předseda) Mgr. Petr Klapetek, Ph.D. - oponent (člen) doc. Ing. Jan Maschke, CSc. (člen) Doc. Ing. František Urban, CSc. - oponent (člen) Doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Vladislav Navrátil, CSc. (člen)	cs
but.jazyk	čeština (Czech)
but.program	Elektrotechnika, elektronika, komunikační a řídicí technika	cs
but.result	práce byla úspěšně obhájena	cs
dc.contributor.advisor	Kolařík, Vladimír	cs
dc.contributor.author	Daněk, Lukáš	cs
dc.contributor.referee	Urban, František	cs
dc.contributor.referee	Klapetek,, Petr	cs
dc.date.created	2009	cs
dc.description.abstract	Disertační práce popisuje postupy použité při optimalizaci vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy pomocí elektronového litografu BS600 v laboratoři Elektronové litografie na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně. Elektronový litograf BS600 byl na Ústavu přístrojové techniky Akademie věd v Brně vyvinut původně pro společnost Tesla v roce 1983, jeho vývoj však neustále pokračuje, jak je vidět i z publikací. Elektronový litograf BS600 je v dnešní době specifický urychlovacím napětím a světově jedinečným možností tvarovat svazek. Optimalizace vytváření reliéfních difraktivních struktur pro optické elementy bylo dosaženo návrhem a realizací algoritmů generujících data pro řízení svazku elektronů. Algoritmy byly založeny na získání popisu obecné difraktivní struktury a jeho převodu na data řídící pohyb, velikost, tvar svazku, a dobu expozice. Výhodné se pro generování dat pro řízení elektronového litografu ukázalo být využití matematického popisu čar struktur. Samostatnou část disertační práce tvoří popis algoritmu a jeho použití vytvořeného za účelem snížení časové náročnosti kalibrace expozičního pole Elektronového litografu BS600.	cs
dc.description.abstract	This thesis describes several techniques for the optimization of the manufacturing of relief diffractive structures used as optical elements by Electron beam lithograph BS600 in the Electron beam laboratory of the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic. The Electron beam lithograph BS600 was originally developed and constructed in the Institute of Scientific Instruments of the Academy of Sciences of the Czech Republic for Tesla in 1983, but is still developing, which was published. The Electron been lithograph BS600 is specific in these days because of its accelerating potential and is unique in the world because of the possibility to shape the beam. The optimization of manufacturing of relief diffractive structures, used as optical elements, was mostly reached by analysis, bringing optimal solution for the required effect. Moreover, an algorithm was developed for driving the electron beam position, shape, size and the time of each elementary exposition. The analysis showed that is convenient to use mathematical description of separate lines of diffractive structures. A separate subject was carried out for the calibration of the exposition field of the Electron beam lithograph BS600.	en
dc.description.mark	P	cs
dc.identifier.citation	DANĚK, L. Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2009.	cs
dc.identifier.other	20956	cs
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11012/6505
dc.language.iso	cs	cs
dc.publisher	Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií	cs
dc.rights	Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení	cs
dc.subject	Elektronová litografie Elektronový litograf BS600 Difraktivní struktury	cs
dc.subject	Electron beam lithography Electron beam writer BS600 Diffractive structures	en
dc.title	Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie	cs
dc.title.alternative	Manufacturing of Relief Diffractive Structures for Optical Elements Using Electron Beam Lithograph	en
dc.type	Text	cs
dc.type.driver	doctoralThesis	en
dc.type.evskp	dizertační práce	cs
dcterms.dateAccepted	2009-12-14	cs
dcterms.modified	2024-05-17-12:52:12	cs
eprints.affiliatedInstitution.faculty	Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií	cs
sync.item.dbid	20956	en
sync.item.dbtype	ZP	en
sync.item.insts	2025.03.27 11:53:58	en
sync.item.modts	2025.01.15 14:30:43	en
thesis.discipline	Mikroelektronika a technologie	cs
thesis.grantor	Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav mikroelektroniky	cs
thesis.level	Doktorský	cs
thesis.name	Ph.D.	cs

Reliéfní difraktivní struktury pro optické elementy realizované pomocí elektronové litografie

Files

Original bundle

Collections