Srovnání vlastností tenkých vrstev titanu, niklu a stříbra, využívaných v polovodičové technologii
| but.committee | prof. Ing. Vladislav Musil, CSc. (předseda) Ing. Tomáš Bžoněk (místopředseda) prof. Ing. Dalibor Biolek, CSc. (člen) Ing. Miroslav Zatloukal (člen) doc. Ing. Pavel Šteffan, Ph.D. (člen) | cs |
| but.defence | Student seznámil státní zkušební komisi s cíli a řešením závěrečné práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta. Doplňující otázky: Naprašování probíhalo jaký způsobem ? Jaká byla čistota targetu ? | cs |
| but.jazyk | čeština (Czech) | |
| but.program | Elektrotechnika, elektronika, komunikační a řídicí technika | cs |
| but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
| dc.contributor.advisor | Hejátková, Edita | cs |
| dc.contributor.author | Dorotík, David | cs |
| dc.contributor.referee | Prášek, Jan | cs |
| dc.date.accessioned | 2019-04-03T22:51:24Z | |
| dc.date.available | 2019-04-03T22:51:24Z | |
| dc.date.created | 2018 | cs |
| dc.description.abstract | Bakalářské práce byla spojená s poznáním všeobecné problematiky nanášení tenkých vrstev metodami napařování a naprašování. Přípravou substrátu a jeho čištění před deponováním tenkých vrstev. Práce byla zaměřena na vlastnosti těchto tenkých vrstev v polovodičové technologii. | cs |
| dc.description.abstract | Bachelor theses were connected with knowledge of general problems of application of thin films by methods of sputtering and evaporation. Prepare the substrate and clean it before depositing thin layers. The work was focused on the properties of these thin films in semiconductor technology. | en |
| dc.description.mark | E | cs |
| dc.identifier.citation | DOROTÍK, D. Srovnání vlastností tenkých vrstev titanu, niklu a stříbra, využívaných v polovodičové technologii [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2018. | cs |
| dc.identifier.other | 109939 | cs |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/81747 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií | cs |
| dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
| dc.subject | Napařování | cs |
| dc.subject | naprašování | cs |
| dc.subject | polovodičová technika | cs |
| dc.subject | tenké vrstvy. | cs |
| dc.subject | Sputtering | en |
| dc.subject | evaporation | en |
| dc.subject | semiconductor technology | en |
| dc.subject | thin films | en |
| dc.title | Srovnání vlastností tenkých vrstev titanu, niklu a stříbra, využívaných v polovodičové technologii | cs |
| dc.title.alternative | Comparison of properties of thin layers of titanium, nickel and silver used in semiconductor technology | en |
| dc.type | Text | cs |
| dc.type.driver | bachelorThesis | en |
| dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
| dcterms.dateAccepted | 2018-06-12 | cs |
| dcterms.modified | 2018-06-14-07:58:55 | cs |
| eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií | cs |
| sync.item.dbid | 109939 | en |
| sync.item.dbtype | ZP | en |
| sync.item.insts | 2021.11.12 18:58:42 | en |
| sync.item.modts | 2021.11.12 18:34:39 | en |
| thesis.discipline | Mikroelektronika a technologie | cs |
| thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav mikroelektroniky | cs |
| thesis.level | Bakalářský | cs |
| thesis.name | Bc. | cs |