Srovnání vlastností tenkých vrstev titanu, niklu a stříbra, využívaných v polovodičové technologii
Loading...
Date
Authors
Dorotík, David
Advisor
Referee
Mark
E
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
ORCID
Abstract
Bakalářské práce byla spojená s poznáním všeobecné problematiky nanášení tenkých vrstev metodami napařování a naprašování. Přípravou substrátu a jeho čištění před deponováním tenkých vrstev. Práce byla zaměřena na vlastnosti těchto tenkých vrstev v polovodičové technologii.
Bachelor theses were connected with knowledge of general problems of application of thin films by methods of sputtering and evaporation. Prepare the substrate and clean it before depositing thin layers. The work was focused on the properties of these thin films in semiconductor technology.
Bachelor theses were connected with knowledge of general problems of application of thin films by methods of sputtering and evaporation. Prepare the substrate and clean it before depositing thin layers. The work was focused on the properties of these thin films in semiconductor technology.
Description
Keywords
Citation
DOROTÍK, D. Srovnání vlastností tenkých vrstev titanu, niklu a stříbra, využívaných v polovodičové technologii [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2018.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Mikroelektronika a technologie
Comittee
prof. Ing. Vladislav Musil, CSc. (předseda)
Ing. Tomáš Bžoněk (místopředseda)
prof. Ing. Dalibor Biolek, CSc. (člen)
Ing. Miroslav Zatloukal (člen)
doc. Ing. Pavel Šteffan, Ph.D. (člen)
Date of acceptance
2018-06-12
Defence
Student seznámil státní zkušební komisi s cíli a řešením závěrečné práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta.
Doplňující otázky:
Naprašování probíhalo jaký způsobem ? Jaká byla čistota targetu ?
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena