Příprava vrstevnatých struktur technologií PE CVD

Simple item page
but.committeeprof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (předseda) prof. RNDr. Vladimír Čech, Ph.D. (člen) prof. Ing. Jaromír Havlica, DrSc. (člen) prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen) doc. RNDr. Jaroslav Petrůj, CSc. (člen) prof. RNDr. Zdirad Žák, M.Sc., CSc. (člen)cs
but.defenceDiplomant prezentoval velmi zajímavé výsledky své diplomové práce jasně, přehledně a zajímavě. Dotazy oponenta zodpověděl správně a v diskuzi prokázal dobrou znalost tématu diplomové práce.cs
but.jazykčeština (Czech)
but.programChemie a technologie materiálůcs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorČech, Vladimírcs
dc.contributor.authorHoferek, Lukášcs
dc.contributor.refereeKrčma, Františekcs
dc.date.accessioned2019-04-03T22:03:24Z
dc.date.available2018-06-10cs
dc.date.created2008cs
dc.description.abstractTato práce je zaměřena na přípravu a charakterizaci tenkých vrstev připravených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PE-CVD) na plošný substrát z křemíku. Součástí práce byla rozsáhlá charakterizace depozičního systému s cílem nalezení vhodných depozičních podmínek. Následně byly připravovány jednoduché a vrstevnaté tenké polymerní struktury z par monomeru tetravinylsilanu. Depoziční průběh byl monitorován spektroskopickou elipsometrií a hmotnostní spektroskopií. Připravené tenké vrstvy byly charakterizovány mikroskopickými a spektroskopickými technikami. Stanovené fyzikální a chemické vlastnosti připravených struktur byly sledovány s ohledem na depoziční podmínky a fragmentaci molekuly monomeru v nízkoteplotním plazmatu.cs
dc.description.abstractThe work is aimed at preparation and characterization of thin films deposited by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD) on silicon wafers. A comprehensive characterization of the deposition system in order to determine the range of deposition conditions was a part of the study. Subsequently, the single and multi-layers were deposited from tetravinylsilane monomer. The deposition process was monitored by spectroscopic ellipsometry and mass spectroscopy. Layers and layered structures were characterized by microscopic and spectroscopic techniques. The physical and chemical properties of deposited films were studied with respect to the deposition conditions and monomer fragmentation in low-temperature plasma.en
dc.description.markAcs
dc.identifier.citationHOFEREK, L. Příprava vrstevnatých struktur technologií PE CVD [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2008.cs
dc.identifier.other2626cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/13615
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta chemickács
dc.rightsPřístup k plnému textu prostřednictvím internetu byl licenční smlouvou omezen na dobu 10 roku/letcs
dc.subjectTenké vrstvycs
dc.subjectmultivrstvycs
dc.subjectPECVDcs
dc.subjecttetravinylsilancs
dc.subjectThin filmsen
dc.subjectmultilayersen
dc.subjectPECVDen
dc.subjecttetravinylsilaneen
dc.titlePříprava vrstevnatých struktur technologií PE CVDcs
dc.title.alternativeFormation of layered structures using PE CVD techniqueen
dc.typeTextcs
dc.type.drivermasterThesisen
dc.type.evskpdiplomová prácecs
dcterms.dateAccepted2008-06-10cs
dcterms.modified2008-09-13-10:45:05cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta chemickács
sync.item.dbid2626en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2023.09.09 08:56:48en
sync.item.modts2023.09.09 08:15:16en
thesis.disciplineChemie materiálůcs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. Ústav chemie materiálůcs
thesis.levelInženýrskýcs
thesis.nameIng.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 1 of 1
Thumbnail Image
Name:
review_2626.html
Size:
9.44 KB
Format:
Hypertext Markup Language
Description:
review_2626.html
Download
Collections
2008