Příprava vrstevnatých struktur technologií PE CVD
Loading...
Date
Authors
ORCID
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
Abstract
Tato práce je zaměřena na přípravu a charakterizaci tenkých vrstev připravených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PE-CVD) na plošný substrát z křemíku. Součástí práce byla rozsáhlá charakterizace depozičního systému s cílem nalezení vhodných depozičních podmínek. Následně byly připravovány jednoduché a vrstevnaté tenké polymerní struktury z par monomeru tetravinylsilanu. Depoziční průběh byl monitorován spektroskopickou elipsometrií a hmotnostní spektroskopií. Připravené tenké vrstvy byly charakterizovány mikroskopickými a spektroskopickými technikami. Stanovené fyzikální a chemické vlastnosti připravených struktur byly sledovány s ohledem na depoziční podmínky a fragmentaci molekuly monomeru v nízkoteplotním plazmatu.
The work is aimed at preparation and characterization of thin films deposited by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD) on silicon wafers. A comprehensive characterization of the deposition system in order to determine the range of deposition conditions was a part of the study. Subsequently, the single and multi-layers were deposited from tetravinylsilane monomer. The deposition process was monitored by spectroscopic ellipsometry and mass spectroscopy. Layers and layered structures were characterized by microscopic and spectroscopic techniques. The physical and chemical properties of deposited films were studied with respect to the deposition conditions and monomer fragmentation in low-temperature plasma.
The work is aimed at preparation and characterization of thin films deposited by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD) on silicon wafers. A comprehensive characterization of the deposition system in order to determine the range of deposition conditions was a part of the study. Subsequently, the single and multi-layers were deposited from tetravinylsilane monomer. The deposition process was monitored by spectroscopic ellipsometry and mass spectroscopy. Layers and layered structures were characterized by microscopic and spectroscopic techniques. The physical and chemical properties of deposited films were studied with respect to the deposition conditions and monomer fragmentation in low-temperature plasma.
Description
Citation
HOFEREK, L. Příprava vrstevnatých struktur technologií PE CVD [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2008.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Chemie materiálů
Comittee
prof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (předseda)
prof. RNDr. Vladimír Čech, Ph.D. (člen)
prof. Ing. Jaromír Havlica, DrSc. (člen)
prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen)
doc. RNDr. Jaroslav Petrůj, CSc. (člen)
prof. RNDr. Zdirad Žák, M.Sc., CSc. (člen)
Date of acceptance
2008-06-10
Defence
Diplomant prezentoval velmi zajímavé výsledky své diplomové práce jasně, přehledně a zajímavě. Dotazy oponenta zodpověděl správně a v diskuzi prokázal dobrou znalost tématu diplomové práce.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Přístup k plnému textu prostřednictvím internetu byl licenční smlouvou omezen na dobu 10 roku/let