Plazmochemická depozice vrstev z plynné fáze s využitím směsí TVS/Ar a TVS/O2
but.committee | prof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (předseda) prof. Ing. Jaromír Havlica, DrSc. (místopředseda) prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen) doc. RNDr. Jaroslav Petrůj, CSc. (člen) prof. Ing. Tomáš Svěrák, CSc. (člen) prof. Dr. Ing. Martin Palou (člen) prof. Ing. Petr Ptáček, Ph.D. (člen) | cs |
but.defence | Diplomant prezentoval velmi zajímavě výsledky své diplomové práce. Prezentace byla jasná a na velmi dobré obsahové i formální úrovni. Dotazy oponenta zodpověděl diplomant správně a prokázal hlubokou znalost zkoumané problematiky. Na dotazy členů komise reagoval správně a pohotově. | cs |
but.jazyk | angličtina (English) | |
but.program | Chemie, technologie a vlastnosti materiálů | cs |
but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
dc.contributor.advisor | Čech, Vladimír | en |
dc.contributor.author | Sadílek, Jakub | en |
dc.contributor.referee | Salyk, Ota | en |
dc.date.accessioned | 2019-04-03T22:04:03Z | |
dc.date.available | 2019-04-03T22:04:03Z | |
dc.date.created | 2013 | cs |
dc.description.abstract | Tato studie je zaměřena na základní výzkum přípravy a-SiC:H a a-SiCO:H slitin plazmových polymerů pomocí metody plazmochemické depozice z plynné fáze (PE-CVD). Tyto slitiny byly připravovány depozicí z monomeru tetravinylsilanu (TVS) a jeho směsí s kyslíkem a argonem při různých efektivních výkonech pulzního plazmatu. Připravené tenké vrstvy byly za účelem získání závislostí optických, mechanických a chemických vlastností na depozičních podmínkách zkoumány pomocí metod spektros-kopické elipsometrie (ELL), nanoindentace (NI), fotoelektronové spektrometrie (XPS) a Fourierovy transformované infračervené spektrometrie | en |
dc.description.abstract | This study is aimed at basic research on a-SiC:H and a-SiOC:H alloys prepared in a form of thin films using plasma-enhanced chemical vapor deposition. These alloys were deposited from tetravinylsilane monomer and its mixtures with argon or oxygen gas at different effective powers under pulsed plasma. Deposited films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, spectro-scopic ellipsometry, and nanoindentation to observe their chemical, optical, and me-chanical properties as a function of deposition conditions. | cs |
dc.description.mark | A | cs |
dc.identifier.citation | SADÍLEK, J. Plazmochemická depozice vrstev z plynné fáze s využitím směsí TVS/Ar a TVS/O2 [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2013. | cs |
dc.identifier.other | 58425 | cs |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/23373 | |
dc.language.iso | en | cs |
dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická | cs |
dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
dc.subject | a-SiC:H | en |
dc.subject | a-SiCO:H | en |
dc.subject | Tetravinylsilane (TVS) | en |
dc.subject | plazmochemická depozice z plyné fáze (PECVD) | en |
dc.subject | tenké vrstvy | en |
dc.subject | elipsometrie | en |
dc.subject | Fourierovsky transformovaná infračervená spek-trometrie (FTIR) | en |
dc.subject | a-SiC:H | cs |
dc.subject | a-SiCO:H | cs |
dc.subject | Tetravinylsilane (TVS) | cs |
dc.subject | Plasma enhanced chemical vapor deposi-tion (PECVD) | cs |
dc.subject | thin film | cs |
dc.subject | ellipsometry | cs |
dc.subject | Fourier transformed infrared spectrometry (FTIR) | cs |
dc.title | Plazmochemická depozice vrstev z plynné fáze s využitím směsí TVS/Ar a TVS/O2 | en |
dc.title.alternative | Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures | cs |
dc.type | Text | cs |
dc.type.driver | masterThesis | en |
dc.type.evskp | diplomová práce | cs |
dcterms.dateAccepted | 2013-06-04 | cs |
dcterms.modified | 2013-06-04-11:40:41 | cs |
eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta chemická | cs |
sync.item.dbid | 58425 | en |
sync.item.dbtype | ZP | en |
sync.item.insts | 2021.11.12 09:05:18 | en |
sync.item.modts | 2021.11.12 08:19:16 | en |
thesis.discipline | Chemie, technologie a vlastnosti materiálů | cs |
thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. Ústav chemie materiálů | cs |
thesis.level | Inženýrský | cs |
thesis.name | Ing. | cs |
Files
Original bundle
1 - 3 of 3
Loading...
- Name:
- final-thesis.pdf
- Size:
- 9.82 MB
- Format:
- Adobe Portable Document Format
- Description:
- final-thesis.pdf
Loading...
- Name:
- appendix-1.pdf
- Size:
- 172.25 KB
- Format:
- Adobe Portable Document Format
- Description:
- appendix-1.pdf
Loading...
- Name:
- review_58425.html
- Size:
- 9.64 KB
- Format:
- Hypertext Markup Language
- Description:
- review_58425.html