Plazmochemická depozice vrstev z plynné fáze s využitím směsí TVS/Ar a TVS/O2
Loading...
Date
Authors
Sadílek, Jakub
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
ORCID
Abstract
Tato studie je zaměřena na základní výzkum přípravy a-SiC:H a a-SiCO:H slitin plazmových polymerů pomocí metody plazmochemické depozice z plynné fáze (PE-CVD). Tyto slitiny byly připravovány depozicí z monomeru tetravinylsilanu (TVS) a jeho směsí s kyslíkem a argonem při různých efektivních výkonech pulzního plazmatu. Připravené tenké vrstvy byly za účelem získání závislostí optických, mechanických a chemických vlastností na depozičních podmínkách zkoumány pomocí metod spektros-kopické elipsometrie (ELL), nanoindentace (NI), fotoelektronové spektrometrie (XPS) a Fourierovy transformované infračervené spektrometrie
This study is aimed at basic research on a-SiC:H and a-SiOC:H alloys prepared in a form of thin films using plasma-enhanced chemical vapor deposition. These alloys were deposited from tetravinylsilane monomer and its mixtures with argon or oxygen gas at different effective powers under pulsed plasma. Deposited films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, spectro-scopic ellipsometry, and nanoindentation to observe their chemical, optical, and me-chanical properties as a function of deposition conditions.
This study is aimed at basic research on a-SiC:H and a-SiOC:H alloys prepared in a form of thin films using plasma-enhanced chemical vapor deposition. These alloys were deposited from tetravinylsilane monomer and its mixtures with argon or oxygen gas at different effective powers under pulsed plasma. Deposited films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, spectro-scopic ellipsometry, and nanoindentation to observe their chemical, optical, and me-chanical properties as a function of deposition conditions.
Description
Keywords
a-SiC:H , a-SiCO:H , Tetravinylsilane (TVS) , plazmochemická depozice z plyné fáze (PECVD) , tenké vrstvy , elipsometrie , Fourierovsky transformovaná infračervená spek-trometrie (FTIR) , a-SiC:H , a-SiCO:H , Tetravinylsilane (TVS) , Plasma enhanced chemical vapor deposi-tion (PECVD) , thin film , ellipsometry , Fourier transformed infrared spectrometry (FTIR)
Citation
SADÍLEK, J. Plazmochemická depozice vrstev z plynné fáze s využitím směsí TVS/Ar a TVS/O2 [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2013.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
en
Study field
Chemie, technologie a vlastnosti materiálů
Comittee
prof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (předseda)
prof. Ing. Jaromír Havlica, DrSc. (místopředseda)
prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen)
doc. RNDr. Jaroslav Petrůj, CSc. (člen)
prof. Ing. Tomáš Svěrák, CSc. (člen)
prof. Dr. Ing. Martin Palou (člen)
prof. Ing. Petr Ptáček, Ph.D. (člen)
Date of acceptance
2013-06-04
Defence
Diplomant prezentoval velmi zajímavě výsledky své diplomové práce. Prezentace byla jasná a na velmi dobré obsahové i formální úrovni. Dotazy oponenta zodpověděl diplomant správně a prokázal hlubokou znalost zkoumané problematiky. Na dotazy členů komise reagoval správně a pohotově.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena