Elektronová litografie na nevodivých substrátech
| but.committee | prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) doc. Ing. Radek Kalousek, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen) doc. Ing. Stanislav Průša, Ph.D. (člen) | cs |
| but.defence | Byly zodpovězeny otázky oponenta. | cs |
| but.jazyk | čeština (Czech) | |
| but.program | Aplikované vědy v inženýrství | cs |
| but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
| dc.contributor.advisor | Viewegh, Petr | cs |
| dc.contributor.author | Hovádková, Zuzana | cs |
| dc.contributor.referee | Šamořil, Tomáš | cs |
| dc.date.created | 2018 | cs |
| dc.description.abstract | Elektronová litografie zažívá v posledních letech velký rozmach, zejména díky možnosti vytvořit velké struktury s přesným rozlišením. Tato práce se zabývá elektronovou litografií na nevodivých substrátech, a to konkrétně na skle. Litografie na skle má využití zejména v biologii, kde je potřeba transparentních substrátů pro světlo, které jsou zároveň netoxické pro růst buněk. V experimentální části jsou ukázány dva způsoby kompenzace akumulovaného náboje a porovnány možnosti jejich dalšího využití. | cs |
| dc.description.abstract | The expansion of electron beam lithography has been really fast during last years. It is mostly because its capability to create big structures with a fine resolution. This study focuses on electron beam lithography on non-conductive substrates, exactly on glass. The lithography on glass is mostly used in life sciences. Because of the transparence of the substrate and its non-toxicity it can be used for cell adhesion. In the experimental section there are shown and compared two techniques how to compensate the charge accumulated on the top of the surface. | en |
| dc.description.mark | B | cs |
| dc.identifier.citation | HOVÁDKOVÁ, Z. Elektronová litografie na nevodivých substrátech [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2018. | cs |
| dc.identifier.other | 109713 | cs |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/83773 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství | cs |
| dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
| dc.subject | Litografie elektronovým svazkem (EBL) | cs |
| dc.subject | skenovací elektronová mirkoskopie (SEM) | cs |
| dc.subject | spin coating | cs |
| dc.subject | elektronová litografie za variabilního tlaku (VP EBL) | cs |
| dc.subject | depozice vodivé vrstvy | cs |
| dc.subject | efekt nabíjení | cs |
| dc.subject | Electron beam lithography (EBL) | en |
| dc.subject | scanning electron microscopy (SEM) | en |
| dc.subject | spin coating | en |
| dc.subject | variable pressure electron beam lithography (VP EBL) | en |
| dc.subject | deposition of conductive layer | en |
| dc.subject | charging effect | en |
| dc.title | Elektronová litografie na nevodivých substrátech | cs |
| dc.title.alternative | Electron beam lithography on non-conductive substrates | en |
| dc.type | Text | cs |
| dc.type.driver | bachelorThesis | en |
| dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
| dcterms.dateAccepted | 2018-06-21 | cs |
| dcterms.modified | 2018-06-25-06:47:55 | cs |
| eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta strojního inženýrství | cs |
| sync.item.dbid | 109713 | en |
| sync.item.dbtype | ZP | en |
| sync.item.insts | 2025.03.26 07:54:00 | en |
| sync.item.modts | 2025.01.15 23:50:10 | en |
| thesis.discipline | Fyzikální inženýrství a nanotechnologie | cs |
| thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrství | cs |
| thesis.level | Bakalářský | cs |
| thesis.name | Bc. | cs |