but.committee	prof. Ing. Vladislav Musil, CSc. (předseda) doc. Ing. Ivan Szendiuch, CSc. (člen) prof. Ing. Jaroslav Boušek, CSc. (člen) doc. RNDr. Petr Mikulík, Ph.D. (člen) doc. Ing. Ivo Kuřitka, Ph.D. - oponent (člen) Mgr. Petr Klapetek, Ph.D. - oponent (člen)	cs
but.jazyk	čeština (Czech)
but.program	Elektrotechnika a komunikační technologie	cs
but.result	práce byla úspěšně obhájena	cs
dc.contributor.advisor	Kolařík, Vladimír	cs
dc.contributor.author	Matějka, Milan	cs
dc.contributor.referee	Kuřitka,, Ivo	cs
dc.contributor.referee	Mgr. Petr Klapetek Ph.D	cs
dc.date.created	2017	cs
dc.description.abstract	Disertační práce je zaměřena na výzkum a vývoj v oblasti vytváření mikrostruktur technologií elektronové litografie. V úvodní části je provedena rozsáhlá studie technologie elektronové litografie z pohledu fyzikálních principů, strategie zápisu a záznamových materiálů. Následuje popis fyzikálního principu metod leptání pro přenos reliéfních struktur do podložek nebo jejich prohlubování. Vlastní práce se zabývá inovativními postupy při modelování, simulaci, datové přípravě a optimalizaci technologických postupů. Přináší nové možnosti záznamu hlubokých binárních i víceúrovňových mikrostruktur pomocí elektronové litografie a metod plazmatického a reaktivního iontové leptání. Zkušenosti a znalosti z oblastí mikrolitografie a plazmatického i mokrého anizotropního leptání křemíku byly zužitkovány při návrhu procesu výroby nano strukturovaných membrán. Následovalo praktické ověření a optimalizace realizačního procesu přípravy těchto membrán	cs
dc.description.abstract	The dissertation thesis is focused on research and development in the field of microfabrication by the technology of electron beam lithography. In the first part of this work, the extensive study is conducted in the field of technology of electron beam lithography in terms of physical principles, writing strategies and resist materials. This is followed with description of physical principles of etching for the transfer of relief structures into substrates. The thesis describes innovative techniques in modelling, simulation, data preparation and optimization of manufacturing technology. It brings new possibilities to record deep binary or multilevel microstructures using electron beam lithography, plasma and reactive ion etching technology. Experience and knowledge in the large area of microlithography, plasma and anisotropic wet-etching of silicon have been capitalized to the design process of manufacturing of nano-patterned membranes. It was followed with practical verification and optimization of the microfabrication process.	en
dc.description.mark	P	cs
dc.identifier.citation	MATĚJKA, M. Technologie přípravy hlubokých struktur v submikronovém rozlišení [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2017.	cs
dc.identifier.other	97924	cs
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11012/63155
dc.language.iso	cs	cs
dc.publisher	Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií	cs
dc.rights	Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení	cs
dc.subject	Elektronová litografie (EBL)	cs
dc.subject	3D litografie	cs
dc.subject	mikro¬technologie	cs
dc.subject	mikro¬výroba	cs
dc.subject	mikro-struktury	cs
dc.subject	MEMS	cs
dc.subject	datová příprava	cs
dc.subject	simulace jevu blízkosti (PES)	cs
dc.subject	korekce jevu blízkosti (PEC)	cs
dc.subject	leptání křemíku	cs
dc.subject	plasmatické procesy	cs
dc.subject	Electron beam lithography (EBL)	en
dc.subject	3D lithography	en
dc.subject	microtechnology	en
dc.subject	microfabrication	en
dc.subject	microstructures	en
dc.subject	MEMS	en
dc.subject	data preparation	en
dc.subject	proximity effect simulation (PES)	en
dc.subject	proximity effect correction (PEC)	en
dc.subject	silicon etching	en
dc.subject	plasma processes	en
dc.title	Technologie přípravy hlubokých struktur v submikronovém rozlišení	cs
dc.title.alternative	Submicron Structures with Deep Relief — Technology of Preparation	en
dc.type	Text	cs
dc.type.driver	doctoralThesis	en
dc.type.evskp	dizertační práce	cs
dcterms.dateAccepted	2017-01-23	cs
dcterms.modified	2024-05-17-12:50:48	cs
eprints.affiliatedInstitution.faculty	Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií	cs
sync.item.dbid	97924	en
sync.item.dbtype	ZP	en
sync.item.insts	2025.03.27 11:57:11	en
sync.item.modts	2025.01.15 18:57:36	en
thesis.discipline	Mikroelektronika a technologie	cs
thesis.grantor	Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav mikroelektroniky	cs
thesis.level	Doktorský	cs
thesis.name	Ph.D.	cs

Technologie přípravy hlubokých struktur v submikronovém rozlišení

Files

Original bundle

Collections