MATĚJKA, M. Technologie přípravy hlubokých struktur v submikronovém rozlišení [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2017.
Disertační práce Ing. Milana Matějky řeší problematiku přípravy planárních mikrostruktur připravených pomocí expozice na elektronovém litografu a souvisejících mikrotechnologií. Řešení spočívá ve výzkumu a vývoji postupů pro přípravu expozičních dat pro vytváření binárních i víceúrovňových struktur, a to včetně analýzy případně kompenzace rozptylu elektronů při interakci s pevnou fází během expozice. V další části práce spočívá řešení ve výzkumu a vývoji leptacích technik pro přenos reliéfu z rezistové masky do pracovní křemíkové, kovové nebo izolační vrstvy. Zmíněná dílčí řešení pak doktorand využil při vývoji a realizaci nových technologických postupů pro vytváření tenkých strukturovaných membrán. Výsledky práce byly průběžně prezentovány na desítkách zahraničních konferencí a publikovány ve sbornících i v odborných a impaktovaných časopisech. V aplikační oblasti je dokladem řada kvalitních výsledků a odborných zpráv z projektů smluvního výzkumu. Na Ústavu přístrojové techniky AV Č v. v. i. byl doktorand zapojen do řady výzkumných projektů. Nad to se podílel na koncepci a realizaci nových laboratoří v čistých prostorách včetně výběru a instalace přístrojového vybavení , což vyžadovalo vysoce erudované odborné znalosti. Pedagogické a řídící schopnosti využil při zaškolování a dílčím vedení nových členů skupiny elektronové litografie. Jsem přesvědčen, že Ing. Milan Matějka prokázal předpoklady pro samostatnou vědeckou práci a že splňuje všechny požadavky kladené na absolventa doktorského studijního programu. Proto doporučuji předloženou disertační práci k obhajobě a udělení titulu Ph.D. V Brně, 22. 1. 2017 doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
viz posudek ve formátu pdf
viz posudek ve formátu pdf
eVSKP id 97924