Naprašování nitridových vrstev pro bioelektronické aplikace pomocí Kaufmanova iontového zdroje

Simple item page
but.committeedoc. Ing. Lukáš Fujcik, Ph.D. (předseda) prof. Ing. Jan Leuchter, Ph.D. (místopředseda) doc. Ing. Petr Křivík, Ph.D. (člen) Ing. Imrich Gablech, Ph.D. (člen) Ing. Alexandr Otáhal, Ph.D. (člen)cs
but.defenceStudent seznámil komisi se svou bakalářskou prací. Prezentoval dosažené výsledky a proběhla diskuze na dané téma BP. Následně student zodpověděl všechny otázky oponenta i členů komise.cs
but.jazykčeština (Czech)
but.programMikroelektronika a technologiecs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorGablech, Imrichcs
dc.contributor.authorJarušek, Jaromírcs
dc.contributor.refereeChmela, Ondřejcs
dc.date.created2022cs
dc.description.abstractTato práce se věnuje nitridovým vrstvám, jejich aplikacím v biomedicíně a depozicí chemickými metodami depozice z plynné fáze a fyzikálními metodami depozici z plynné fáze. Zaměřuje se především na přípravu tenkých vrstev nitridu titanitého reaktivním naprašováním s využitím dvou Kaufmanových zdrojů iontů. Vrstvy byly deponovány na křemíkové wafery a podložní mikroskopická sklíčka. Nadeponované vrstvy nitridu titanitého jsou charakterizovány rentgenovou difrakční analýzou, čtyřbodovou metodou měření vrstvového odporu a měřením křivosti pro zbytkové pnutí.cs
dc.description.abstractIn this work, nitride layers, their applications in bioelectronics, and methods of chemical vapour deposition and physical vapour deposition are presented. The focus of this work is the preparation of titanium nitride thin films by reactive sputtering using Kaufman ion-beam sources. Thin films were deposited on silicon wafers and microslides. Deposited titanium nitride thin films are characterized by X-ray diffraction, four-point probe sheet resistance measurement and profilometry to determine residual stress.en
dc.description.markAcs
dc.identifier.citationJARUŠEK, J. Naprašování nitridových vrstev pro bioelektronické aplikace pomocí Kaufmanova iontového zdroje [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2022.cs
dc.identifier.other142495cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/205791
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologiícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectnitrid titanitýcs
dc.subjecttenké vrstvycs
dc.subjectprůhledné vodivé vrstvycs
dc.subjectKaufmanův iontový zdrojcs
dc.subjectreaktivní naprašovánícs
dc.subjectcharakterizacecs
dc.subjectoptická transmisecs
dc.subjectvrstvový odporcs
dc.subjecttitanium nitrideen
dc.subjectthin filmsen
dc.subjecttransparent conductive filmsen
dc.subjectKaufman ion-beam sourceen
dc.subjectreactive sputteringen
dc.subjectcharacterizationen
dc.subjectoptical transmissionen
dc.subjectsheet resistanceen
dc.titleNaprašování nitridových vrstev pro bioelektronické aplikace pomocí Kaufmanova iontového zdrojecs
dc.title.alternativeSputtering of nitride layers using Kaufman ion-beam source for bioelectronics applicationsen
dc.typeTextcs
dc.type.driverbachelorThesisen
dc.type.evskpbakalářská prácecs
dcterms.dateAccepted2022-06-15cs
dcterms.modified2022-06-17-08:56:41cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta elektrotechniky a komunikačních technologiícs
sync.item.dbid142495en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2025.03.17 16:25:22en
sync.item.modts2025.01.15 12:22:43en
thesis.disciplinebez specializacecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav mikroelektronikycs
thesis.levelBakalářskýcs
thesis.nameBc.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 3 of 3
Thumbnail Image
Name:
final-thesis.pdf
Size:
10.88 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
final-thesis.pdf
Download
Thumbnail Image
Name:
Posudek-Oponent prace-Oponentni posudek Jaromir Jarusek.pdf
Size:
93.07 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Posudek-Oponent prace-Oponentni posudek Jaromir Jarusek.pdf
Download
Thumbnail Image
Name:
review_142495.html
Size:
6.5 KB
Format:
Hypertext Markup Language
Description:
file review_142495.html
Download
Collections
2022