JARUŠEK, J. Naprašování nitridových vrstev pro bioelektronické aplikace pomocí Kaufmanova iontového zdroje [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2022.
Předmětem bakalářské práce studenta Jaromíra Jaruška byla oblast depozic nitridových vrstev pomocí Kaufmanova iontového zdroje. Teoretická část práce popisuje vlastnosti konvenčních nitridových vrstev, které se připravují pomocí CVD a PVD metod. Na tuto část navazují kapitoly popisující CVD a PVD metody pro přípravu nitridových vrstev a jejich následnou charakterizaci. V práci jsou také podrobněji popsány různé zdroje iontů a hlavní pozornost je zaměřena na Kaufmanův iontový zdroj, který byl v této práci využit. Hlavní část práce byla zaměřena na přípravu TiN vrstev při nízkých teplotách tak, aby je bylo možné v budoucnu použít při výrobě bioelektronických zařízení. Student během této fáze provedl několik experimentů, kde se soustředil na parametry depozice a charakterizaci připravených vrstev. Studentovi se také navíc podařilo připravit tenké TiN vrstvy s výbornou optickou propustností a elektrickou vodivostí. V praktické části nic nechybí a zpracování experimentů je velice přehledné. Student Jaromír Jarušek byl po celou dobu řešení své práce velmi aktivní a měl konstruktivní návrhy ohledně optimalizace výrobního procesu TiN vrstev, které budou dále využívány na pracovišti CEITEC. Student se v tématu výborně zorientoval a osvojil si správné návyky práce v čistých laboratořích a naučil se ovládat několik zařízení. Formální zpracování práce je na velmi vysoké úrovni. V práci se v minimálním rozsahu vyskytují obraty nebo výrazy, které nejsou dobře čtivé. Vzhledem k uvedeným skutečnostem práci doporučuji k obhajobě a hodnotím výslednou známkou A - 98 bodů.
Tato bakalářská práce se zabývá problematikou depozice tenkých nitridových vrstev a jejich optimalizace pro následné použití v biomedicínských aplikacích. Hlavním cílem práce se zaměřuje na přípravu tenké vrstvy nitridu titanu pomocí Kaufmanova zdroje iontů a optimalizací jejich parametrů tak, aby ji bylo možno využít jako elektrody na flexibilních substrátech. V teoretické části se student věnuje nitridovým vrstvám, metodami jejich depozice a charakterizace, ale i jednotlivým typům iontových zdrojů, které je možno využít pro depozici tenkých nitridových vrstev. Tuto část práce lze označit za velmi vydařenou a to i díky tomu, že k jejímu zpracování použil dostatek odborné literatury. Kromě pár překlepů v textu (např. na straně 26) nemám práci co vytknout, ani po technické stránce věci. Pro příště bych pouze doporučil věnovat více pozornosti uniformitě velikostí popisků v obrázcích. V praktické části se student zaměřuje na samotné depozice tenké vrstvy nitridu titanu a optimalizaci jejich parametrů, zejména zjištění depoziční rychlosti, zbytkového pnutí a optických parametrů. Přitom se student zaměřuje zejména na depozice při nízkých teplotách do 100°C, což může být jeden z kritických parametrů případného stresu ve vrstvě, a to zejména při použití flexibilních substrátů. Snad bych jenom vytkl neuvedení všech parametrů depozice (zejména právě teploty) v závěrečné kapitole výroby zavěšených struktur na křemíku, podle kterých by si mohl čtěnář lépe představit vznik pnutí ve vrstvě. Obsah této práce student splnil v doporučeném rozsahu a i vzhledem k výše zmíněným drobným nedostatkům je práce na velmi dobré úrovni. Hodnotím práci známkou A (93 b.) a doporučuji ji k obhajobě.
eVSKP id 142495