Analýza parametrů podávání práškových materiálů v technologii RF-ICP

Abstract

Práce je zaměřena na technologii radiofrekvenčního indukčně vázaného plazmatu, která se používá na depozici vrstev. V rámci práce jsme se zaměřili na dva cíle. První se zaobíral problematikou práškového podavače pracujícího na vibračním principu a použitého v přístroji využívající indukčně vázané plazma. Cílem je zjištění jeho vlastností, závislosti na odlišných vstupních parametrech a pracovních podmínkách a ověření vhodnosti jeho použití pro tuto aplikaci. Předpokladem bylo zjištění ideální konfigurace podavače pro podávání daného prášku, ale po celkovém zhodnocení vlastností podavače byl uznán jako nevhodný pro tuto aplikaci. Druhým cílem práce je nástřik wolframových vrstev ze tří odlišných wolframových prášků. Nástřiky pomocí technologie indukčně vázané plasmy přináší slibné výsledky, ale je třeba se této problematice do budoucna intenzivně věnovat.The work is focused on the problematics of inductively coupled plasma, which is used for deposition of layers. We focused on two goals in the work. The first one focused on powder feeder, which is working on the vibration principle and is used in an apparatus that is using inductively coupled plasma. The aim is to determine its properties, dependence on different input parameters and working conditions. Is important to verify the suitability of its use for this kind of application. The assumption was to find the ideal configuration of the feeder for the given powder. After an overall assessment of the feeder properties, it was recognized as inappropriate for this application. The second goal is to spray tungsten layers with three different tungsten powders. Layers made with an inductively coupled plasma technology delivers promising results, but this issue needs to be intensively addressed in the future.