Povrchová topografie plazmových polymerů nanesených na rovinných a vláknových substrátech zkoumaná pomocí mikroskopie atomární síly

Abstract

Tato bakalářská práce se zabývá charakterizaci morfologie tenkých vrstev plazmových polymerů, které byly připraveny z monomeru tetravinylsilanu a naneseny na plošné křemíkové substráty a skleněná vlákna typu E. Způsobem přípravy tenkých vrstev byla chemická depozice z plynné fáze (PE CVD). K charakterizaci morfologie povrchu byla pouţita metoda mikroskopie atomárních sil (AFM), pro kterou byla zpracována literární rešerše v teoretické části této práce. Ze získaných dat byla posouzena závislost povrchové topografie ve vztahu k depozičním podmínkám a velikostí zkoumané plochy a rovněţ byly navrhnuty způsoby jejích interpretace pro účely následné statistické analýzy.This bachelor thesis deals with the characterization of the morphology of thin films of plasma polymers, which were prepared from the monomer tetravinylsilane and deposited on planar silicon substrates and type E glass fibers. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PE CVD) has been used as a method of thin films preparations. Characterization of the surface morphology was made by using atomic force microscopy (AFM), for which was prepared literature review at the theoretical part of this bachelor thesis. The collected data have been used for estimating dependence of surface topography in relation to the deposition conditions and the size of investigated area. Also have been suggested methods of the data interpretation for purposes of subsequent statistical analysis.