Návrh softwarové aplikace pro modelování koncentračních profilů při procesu iontové implantace a termické difuze
Loading...
Date
Authors
Nespěchal, Marek
ORCID
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Tato bakalářská práce se zabývá návrhem a realizací aplikace CPCalc sloužící pro vizualizaci koncentračních profilů při procesu termické difuze a iontové implantace. Aplikace je navržena s ohledem na její plánované využití při laboratorní výuce materiálově zaměřených předmětů na Ústavu elektrotechnologie. Teoretická část předkládané práce shrnuje technologický proces výroby polovodičů a v detailu se věnuje technologickým procesům pro dotování polovodičů – difuzi a iontové implantaci. V práci je představeno základní fungování a jednotlivé bloky aplikace CPCalc, která je vyvíjena v programovacím jazyce Python v kombinaci s knihovnou Tkinter, jejichž stručná charakterizace je v tomto textu rovněž obsažena.
This thesis deals with the design and development of the CPCalc application used for the visualization of concentration profiles during the process of thermal diffusion and ion implantation. The application was designed with regard to its planned use in the laboratory teaching of material-oriented subjects at the UETE. The theoretical part of the thesis summarizes the technological process of semiconductor manufacturing and deals in detail with the technological processes for doping semiconductors – diffusion and ion implantation. The thesis presents the basic functioning and individual blocks of the CPCalc application, which is developed in the Python programming language in combination with the Tkinter library, a brief characterization of which is also included in this text.
This thesis deals with the design and development of the CPCalc application used for the visualization of concentration profiles during the process of thermal diffusion and ion implantation. The application was designed with regard to its planned use in the laboratory teaching of material-oriented subjects at the UETE. The theoretical part of the thesis summarizes the technological process of semiconductor manufacturing and deals in detail with the technological processes for doping semiconductors – diffusion and ion implantation. The thesis presents the basic functioning and individual blocks of the CPCalc application, which is developed in the Python programming language in combination with the Tkinter library, a brief characterization of which is also included in this text.
Description
Citation
NESPĚCHAL, M. Návrh softwarové aplikace pro modelování koncentračních profilů při procesu iontové implantace a termické difuze [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2023.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
bez specializace
Comittee
prof. Ing. Jiří Kazelle, CSc. (předseda)
doc. Ing. Jiří Maxa, Ph.D. (místopředseda)
Ing. Josef Máca, Ph.D. (člen)
Ing. Ladislav Chladil, Ph.D. (člen)
Ing. Martin Adámek, Ph.D. (člen)
Date of acceptance
2023-06-13
Defence
Student seznámil státní zkušební komisi s cíli a řešením závěrečné vysokoškolské práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta.
Otázky komise k obhajobě:
1. Jaká je časová náročnost výsledné navržené laboratorní úlohy?
2. Z jaké literatury jste čerpal použité koeficiety pro aplikované výpočty?
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení