Aplikace KPM na povrchu grafén/Si modifikovaném metodou FIB

Abstract

Tato diplomová práce je zaměřená na aplikaci kelvinovské hrotové mikroskopie na grafenu připraveného metodou chemické depozice z plynné fáze. Teoretická část pojednává o kelvinovské hrotové mikroskopii, o metodě fokusovaného iontového svazku a o základních vlastnostech grafenu a jeho výrobě. Experimentální část je zaměřená na přípravu grafenových membrán na podložním substrátu modifikovaném fokusovaným iontovým svazkem a na měření povrchového potenciálu na takto připravených membránách. Dále se experimentální část zabývá možností využití mikroskopu atomárních sil při přípravě grafenových nanostruktur.This diploma thesis is focused on the application of Kelvin probe microscopy on graphene fabricated by the chemical vapour deposition. The theoretical part of the thesis deals with basic principles of Kelvin force microscopy and focus ion beam. Further, basic properties of graphene and its possible fabrication methods are discussed. The experimental part is focused on the surface potential measurements on graphene membranes fabricated on the substrate modified by focus ion beam. Finally, atomic force microscope lithography was used for nanopatterning of graphene sheets.