Příprava aktivních nanosoučástek

dc.contributor.author	Hrdý, Radim	cs
dc.contributor.author	Prášek, Jan	cs
dc.date.accessioned	2024-05-03T11:03:33Z
dc.date.available	2024-05-03T11:03:33Z
dc.date.created	2024-03-01	cs
dc.date.issued	2024-05-03	cs
dc.description.abstract	Tento kurz, vás seznámí se základními principy práce v laboratořích čistých prostor a dále představí přístroje a procesy používané v nanofabrikaci pro přípravu výroby elektronických součástek na čipu.	cs
dc.format	text	cs
dc.format.mimetype	application/pdf	cs
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/11012/245342
dc.language.iso	cs	cs
dc.publisher	VUT v Brně	cs
dc.relation.projectId	NPO_VUT_MSMT-16609/2022
dc.relation.uri	https://www.vut.cz/vav/projekty/npo	cs
dc.rights	Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International	cs
dc.rights.access	openAccess	cs
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-sa/4.0/	cs
dc.subject	čisté prostory ISO5	cs
dc.subject	elektronické součástky	cs
dc.subject	RCA Cleaning	cs
dc.subject	Vacuum deposition	cs
dc.subject	Spincoating	cs
dc.subject	Deep reactive ion etching	cs
dc.subject	Plasma ashing	cs
dc.subject	Silicon dioxide wet etching	cs
dc.subject	Electrical characterization	cs
dc.title	Příprava aktivních nanosoučástek	cs
dc.type.driver	other	en
dc.type.version	publishedVersion	en

Now showing 1 - 1 of 1