Příprava aktivních nanosoučástek

Thumbnail Image

Files

CEITEC_A4_24.pdf (3.23 MB)

Date

2024-05-03

Authors

Hrdý, Radim
Prášek, Jan

Advisor

Referee

Mark

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Publisher

VUT v Brně

ORCID

Abstract

Tento kurz, vás seznámí se základními principy práce v laboratořích čistých prostor a dále představí přístroje a procesy používané v nanofabrikaci pro přípravu výroby elektronických součástek na čipu.

Description

Keywords

čisté prostory ISO5 , elektronické součástky , RCA Cleaning , Vacuum deposition , Spincoating , Deep reactive ion etching , Plasma ashing , Silicon dioxide wet etching , Electrical characterization

Citation


https://www.vut.cz/vav/projekty/npo

Document type

Document version

Published version

Date of access to the full text

Language of document

cs

Study field

Comittee

Date of acceptance

Defence

Result of defence

DOI

URI

https://hdl.handle.net/11012/245342

Collections

Specifický cíl A

Endorsement

Review

Supplemented By

Referenced By

Creative Commons license

Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International
Except where otherwised noted, this item's license is described as Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International
Citace PRO