Syntéza polymerů s nízkou hustotou zesítění pomocí plazmové polymerace
| but.committee | doc. Ing. František Šoukal, Ph.D. (předseda) prof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (člen) prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen) prof. Ing. Petr Ptáček, Ph.D. (člen) prof. Ing. Tomáš Svěrák, CSc. (člen) doc. Ing. Lucy Vojtová, Ph.D. (člen) Ing. Lukáš Tvrdík (člen) | cs |
| but.defence | Studentka představila nejdříve cíle své práce Syntéza polymerů s nízkou hustotou zesítění pomocí plazmové polymerace. Následně představila použité materiály a způsoby charakterizace připravených vrstev. Poté představila naměřené mechanické a optické vlastnosti. Velkou pozornost věnovala studentka naměřeným absorpčním spektrům a následně zhodnotila dosažené výsledky a odpověděla na otázku oponenta: V komentáři k Obr. 3.12 píšete, že k postdepoziční oxidaci vrstvy chráněné bariérou prakticky nedochází. Jste si jistá přiřazením absorpčního pásu při cca 750 cm-1 skupinám Si-O-C/Si-O-Si? To by znamenalo, že k oxidaci došlo. Komise položila tuto otázku: Jak jste stanovovala hustotu? Na zadané otázky studentka výborně odpověděla. | cs |
| but.jazyk | čeština (Czech) | |
| but.program | Chemie a chemické technologie | cs |
| but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
| dc.contributor.advisor | Čech, Vladimír | cs |
| dc.contributor.author | Kuchtová, Štěpánka | cs |
| dc.contributor.referee | Bránecký, Martin | cs |
| dc.date.created | 2021 | cs |
| dc.description.abstract | Tato bakalářská práce se zabývá plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD), konkrétně plazmovou polymerací, která byla použita pro syntézu tenkých polymerních vrstev s nízkou hustotu zesítění. Organokřemičité tenké vrstvy byly nanášeny na křemíkový substrát vysokofrekvenčním (RF) kapacitně vázaným plazmatem v depoziční komoře. Ke stanovení tloušťky vrstvy a jejích optických vlastností byla použita spektroskopická elipsometrie. Chemická struktura vrstev byla zkoumána prostřednictvím infračervené spektroskopie s Fourierovou transformací a mechanické vlastnosti byly zkoumány nanoindentací. V souvislosti se snahou o dosažení nízké hustoty zesítění materiálu byl zkoumán vliv výkonu a self-biasu (USB) na chemickou strukturu, mechanické a optické vlastnosti připravených vrstev, které s hustotou zesítění souvisejí. Nízko zesítěné plazmové polymery se podařilo syntetizovat při self-biasu na úrovni 1 V, který odpovídá přibližně RF výkonu 0,1 W. Tento materiál lze charakterizovat hustotou 1,2 g·cm-3, modulem pružnosti 4 GPa, tvrdostí 0,04 GPa a indexem lomu 1,53 při 633 nm (vlnová délka He-Ne laseru). Infračervená spektroskopie potvrdila, že tento plazmový polymer je tvořen uhlíkovou sítí s menším množstvím zabudovaných křemíkových atomů, a především nejvyšší koncentrací vinylových skupin ve srovnání s plazmovými polymery připravenými při vyšších výkonech. | cs |
| dc.description.abstract | This bachelor thesis deals with plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD), specifically plasma polymerisation, which has been used for the synthesis of low density crosslinked polymer thin films. Organosilicon thin films were deposited on a silicon substrate by radio frequency (RF) capacitively coupled plasma in a deposition chamber. Spectroscopic ellipsometry was used to determine the layer thickness and its optical properties. The chemical structure of the layers was investigated by Fourier transform infrared spectroscopy and the mechanical properties were investigated by nanoindentation. The effect of power and self-bias (USB) on the chemical structure, mechanical and optical properties of the as-prepared layers, which are related to the crosslinking density, was investigated in the context of achieving low crosslinking density of the material. Low crosslinked plasma polymers were synthesized at a self-bias level of 1 V, which corresponds to an approximate RF power of 0,1 W. This material can be characterized by a density of 1, 2 g·cm-3 an elastic modulus of 4 GPa, a hardness of 0,04 GPa and a refractive index of 1.53 at 633 nm (He-Ne laser wavelength). Infrared spectroscopy confirmed that this plasma polymer is composed of a carbon network with fewer embedded silicon atoms and, in particular, the highest concentration of vinyl groups compared to plasma polymers prepared at higher powers. | en |
| dc.description.mark | A | cs |
| dc.identifier.citation | KUCHTOVÁ, Š. Syntéza polymerů s nízkou hustotou zesítění pomocí plazmové polymerace [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2021. | cs |
| dc.identifier.other | 130163 | cs |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/201284 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická | cs |
| dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
| dc.subject | Tenké vrstvy | cs |
| dc.subject | chemická depozice z plynné fáze | cs |
| dc.subject | plazmochemická depozice z plynné fáze | cs |
| dc.subject | plazmový polymer | cs |
| dc.subject | tetravinylsilan | cs |
| dc.subject | infračervená spektroskopie | cs |
| dc.subject | spektroskopická elipsometrie | cs |
| dc.subject | Thin films | en |
| dc.subject | chemical vapor deposition | en |
| dc.subject | plasma enhanced chemical vapor deposition | en |
| dc.subject | plasma polymer | en |
| dc.subject | tetravinylsilane | en |
| dc.subject | infrared spectroscopy | en |
| dc.subject | spectroscopic ellipsometry | en |
| dc.title | Syntéza polymerů s nízkou hustotou zesítění pomocí plazmové polymerace | cs |
| dc.title.alternative | Synthesis of low-crosslinked polymers by plasma polymerization | en |
| dc.type | Text | cs |
| dc.type.driver | bachelorThesis | en |
| dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
| dcterms.dateAccepted | 2021-08-30 | cs |
| dcterms.modified | 2024-05-17-12:51:00 | cs |
| eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta chemická | cs |
| sync.item.dbid | 130163 | en |
| sync.item.dbtype | ZP | en |
| sync.item.insts | 2025.03.16 12:55:23 | en |
| sync.item.modts | 2025.01.17 11:47:31 | en |
| thesis.discipline | Chemie, technologie a vlastnosti materiálů | cs |
| thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. Ústav chemie materiálů | cs |
| thesis.level | Bakalářský | cs |
| thesis.name | Bc. | cs |