Electroless Deposition of Ni-P/SiO2 Composite Coating

dc.contributor.authorBuchtík, Martincs
dc.contributor.authorKosár, Petrcs
dc.contributor.authorWasserbauer, Jaromírcs
dc.contributor.authorZmrzlý, Martincs
dc.coverage.issue5cs
dc.coverage.volume64cs
dc.date.accessioned2021-12-08T11:54:26Z
dc.date.available2021-12-08T11:54:26Z
dc.date.issued2016-10-30cs
dc.description.abstractElectroless deposit Ni–P/SiO2 composite coating was performed on the steel substrate, DIN EN 10130. The preparation of nickel coating included two main steps. In the first step, the fraction of SiO2 particles sized the tens of nanometres was obtained by sedimentation. In the second step, the composite coating was plated on the steel substrate. The actual deposition process contains the deposition of plain Ni-P interlayer which served as the nucleation center for the deposition of Ni-P/SiO2 composite coating with co-deposited SiO2 particles. The morphology of deposited composite coating was studied by scanning electron microscope (SEM). Amount of individual elements in deposited coatings was determinated by EDS analysis. The microhardness of deposited composite coating was subsequently compared with microhardness value of the plain Ni–P coating.en
dc.description.abstractChemické vklad Ni – P/SiO2 kompozitní povlak byla provedena na ocelových podložek DIN EN 10130. Příprava niklování zahrnuty dva hlavní kroky. V prvním kroku, zlomek SiO2 částic velikosti desítek nanometrů byl získán sedimentací. V druhém kroku byl pozlacený kompozitní povlak na ocelový podklad. Skutečné povlakováním obsahuje depozice obyčejný Ni-P mezivrstva, která sloužila jako nukleační centra pro depozici Ni-P/SiO2 kompozitní povlak co uložených částicemi SiO2. Morfologie uložených kompozitní povlak byl studován Řádkovací elektronový mikroskop (SEM). Množství jednotlivých prvků v uložených nátěry byl určen analýzy EDS. Mikrotvrdost uložených kompozitní povlak byl následně porovnány s hodnotou mikrotvrdost běžný povlak Ni – P.cs
dc.formattextcs
dc.format.extent1459-1464cs
dc.format.mimetypeapplication/pdfcs
dc.identifier.citationActa Universitatis Agriculturae et Silviculturae Mendelianae Brunensis. 2016, vol. 64, issue 5, p. 1459-1464.en
dc.identifier.doi10.11118/actaun201664051459cs
dc.identifier.issn1211-8516cs
dc.identifier.other129533cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/203111
dc.language.isoencs
dc.publisherMendel University in Brnocs
dc.relation.ispartofActa Universitatis Agriculturae et Silviculturae Mendelianae Brunensiscs
dc.relation.urihttps://acta.mendelu.cz/64/5/1459/cs
dc.rightsCreative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internationalcs
dc.rights.accessopenAccesscs
dc.rights.sherpahttp://www.sherpa.ac.uk/romeo/issn/1211-8516/cs
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/cs
dc.subjectEDS analysisen
dc.subjectelectroless depositionen
dc.subjectNi–P coatingen
dc.subjectNi–P/SiO2 composite coatingen
dc.subjectsteel substrate DIN EN 10130.en
dc.subjectEDS analýza
dc.subjectanodickém vylučování
dc.subjectNi – P povlak
dc.subjectNi – P/SiO2 kompozitní povlak
dc.subjectocelové podložky DIN EN 10130.
dc.titleElectroless Deposition of Ni-P/SiO2 Composite Coatingen
dc.title.alternativeBezproudá depozice Ni-P/SiO2 kompozitního povlakucs
dc.type.driverarticleen
dc.type.statusPeer-revieweden
dc.type.versionpublishedVersionen
sync.item.dbidVAV-129533en
sync.item.dbtypeVAVen
sync.item.insts2021.12.08 12:54:26en
sync.item.modts2021.12.08 12:14:18en
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. CMV - laboratoř kovů a korozecs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 1 of 1
Loading...
Thumbnail Image
Name:
Acta_acu2016050004.pdf
Size:
457.06 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
Acta_acu2016050004.pdf