Příprava nízkodimenzionálních III-V polovodičů

but.committeeprof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) doc. Ing. Radek Kalousek, Ph.D. (člen) doc. Mgr. Adam Dubroka, Ph.D. (člen) prof. Mgr. Dominik Munzar, Dr. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) doc. Ing. Stanislav Průša, Ph.D. (člen)cs
but.defencePo otázkách oponenta bylo diskutováno: Mechanické a elektrické vlastnosti nanomateriálů. Student otázku zodpověděl.cs
but.jazykangličtina (English)
but.programFyzikální inženýrství a nanotechnologiecs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorKolíbal, Miroslaven
dc.contributor.authorStanislav, Silvestren
dc.contributor.refereeDetz, Hermannen
dc.date.created2021cs
dc.description.abstractTato diplomová práce se zabývá přípravou nanostruktur z indium arsenidu (InAs) pomocí metody molekulární svazkové epitaxe (MBE). Důraz je kladen na výrobu struktur ve formě nanodrátů na křemíkovém substrátu. V úvodní části práce je popsána motivace pro studium III-V polovodičů a konkrétně InAs. Následující kapitoly vysvětlují dva základní princpy tvorby nanodrátů. Experimentální část práce diskutuje možnost přípravy indiového katalyzátoru pro samokatalyzovaný růst InAs nanodrátů v konkrétní aparatuře MBE. Následuje prezentace výsledků růstu InAs nanodrátů mechanismem selektivní epitaxe (SAE). Nanodráty byly vyrobeny na substrátu s termálně dekomponovaným oxidem a rovněž na substrátech s litograficky připravenou oxidovou maskou.en
dc.description.abstractThe diploma thesis deals with the preparation of nanostructures from indium arsenide (InAs) using the molecular beam epitaxy (MBE) method. Emphasis is placed on the production of structures in the form of nanowires on a silicon substrate. The introductory part of the thesis describes the motivation for the study of III-V semiconductors and specifically InAs. The following chapters explain two basic principles of nanowire formation. The experimental part of the work discusses the possibility of preparing an indium catalyst for self-seeded InAs nanowire growth in a specific MBE apparatus. The following part presents the results of InAs nanowires growth via the selective area epitaxy (SAE) mechanism. The nanowires were fabricated on a substrate with thermally decomposed silicon dioxide and on a substrate with a lithographically prepared silicon dioxide mask.cs
dc.description.markAcs
dc.identifier.citationSTANISLAV, S. Příprava nízkodimenzionálních III-V polovodičů [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2021.cs
dc.identifier.other132114cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/198321
dc.language.isoencs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrstvícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectnanodrátyen
dc.subjectarsenid inditýen
dc.subjectInAsen
dc.subjectselektivní epitaxeen
dc.subjectSAEen
dc.subjectvapour-liquid-solid růsten
dc.subjectVLSen
dc.subjectmolekulární svazková epitaxeen
dc.subjectMBEen
dc.subjectkatalytické nanočásticeen
dc.subjectnanowirescs
dc.subjectindium arsenidecs
dc.subjectInAscs
dc.subjectselective area epitaxycs
dc.subjectSAEcs
dc.subjectvapour-liquid-solid growthcs
dc.subjectVLScs
dc.subjectmolecular beam epitaxycs
dc.subjectMBEcs
dc.subjectcatalytic nanoparticlescs
dc.titlePříprava nízkodimenzionálních III-V polovodičůen
dc.title.alternativePreparation of low-dimensional III-V semiconductorscs
dc.typeTextcs
dc.type.drivermasterThesisen
dc.type.evskpdiplomová prácecs
dcterms.dateAccepted2021-06-15cs
dcterms.modified2021-06-21-08:20:22cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta strojního inženýrstvícs
sync.item.dbid132114en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2025.03.27 10:32:41en
sync.item.modts2025.01.15 20:50:15en
thesis.disciplinebez specializacecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrstvícs
thesis.levelInženýrskýcs
thesis.nameIng.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 2 of 2
Loading...
Thumbnail Image
Name:
final-thesis.pdf
Size:
8.17 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
final-thesis.pdf
Loading...
Thumbnail Image
Name:
review_132114.html
Size:
8.69 KB
Format:
Hypertext Markup Language
Description:
file review_132114.html
Collections