Plazmochemická depozice tenkých fluorocarbonových vrstev

but.committeeprof. Ing. Miloslav Pekař, CSc. (předseda) prof. Ing. Michal Čeppan, Ph.D. (místopředseda) prof. RNDr. Marie Kaplanová, CSc. (člen) doc. Ing. Pavel Kovařík, Ph.D. (člen) doc. Ing. Marián Lehocký, Ph.D. (člen) prof. Ing. Michal Veselý, CSc. (člen) prof. Ing. Oldřich Zmeškal, CSc. (člen)cs
but.defenceBalaštíková Zmeškal: kde bylo prováděno elipsometrické měření Veselý: bylo prováděno statistické hodnocení úhlů smáčení Kovařík: která měření jste prováděla sama, která měření byla prováděna dodavatelsky Čeppan: k čemu vede provedený výzkum, optimalizace technologií Kaplanová: které kapaliny byly měřeny pomocí metody kontaktního úhlu Pekař: používají se i jiné metody přípravy vrstev než jste použila vycs
but.jazykčeština (Czech)
but.programSpotřební chemiecs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorKrčma, Františekcs
dc.contributor.authorVeverková, Radkacs
dc.contributor.refereePřikryl, Radekcs
dc.date.accessioned2019-05-17T06:13:32Z
dc.date.available2019-05-17T06:13:32Z
dc.date.created2011cs
dc.description.abstractDepozice tenkých vrstev je jednou z nejrozšířenějších aplikací pro změnu povrchových vlastností nejrůznějších materiálů. Tato diplomová práce se zabývá diagnostikou tenkých vrstev, které vznikly technikou PECVD. Pro depozici tenkých vrstev bylo využito kapacitně vázaného RF plazmatu za sníženého tlaku. Jako prekurzor byl použit tetrafluormetan (CF4) s příměsí vodíku (H2). Cílem práce bylo nalézt optimální podmínky pro vytvoření hydrofobní tenké vrstvy na povrchu polymeru NOA. Depozice byly prováděny v kontinuálním i pulzním režimu výboje s různou střídou. Depoziční proces byl monitorován pomocí optické emisní spektroskopie a in situ hmotnostní spektrometrie. Vytvořené tenké vrstvy byly charakterizovány pomocí měření kontaktního úhlu, rentgenové fotoelektronové spektroskopie, infračervené spektroskopie a optické elipsometrie. Byly sledovány vlivy použitého režimu výboje a výkonu a složení směsí reakčních plynů. Kontaktní úhel byl nejvyšší pro depozice v kontinuálním režimu. Pomocí hmotnostní spektrometrie a optické emisní spektrokopie byly sledovány rozkladné procesy uvnitř reaktoru. Rentgenová fotoelektronová spektroskopie poskytla údaje o chemických vazbách zastoupených na povrchu vzorku. Byly to především skupiny C – C/C – H, C – O, O = C – O pro vzorek bez vrstvy. Po depozici se objevily také další vazby a to C – CF, CF2, CF3. Elipsometricky byla zjištěna tloušťka tenké vrstvy okolo 8,2 nm. Zjištěné výsledky lze použít jako základ pro další, rozšířené studium problematiky plazmochemicky připravených tenkých fluorokarbonových vrstev a jejich vlastností.cs
dc.description.abstractDeposition of thin films is one of the most widespread applications used for the changes of surface properties of various materials. This diploma thesis is focused on diagnosing of thin film generated by a PECVD technique. The capacitively coupled RF discharge at low pressure was used for the thin films deposition using tetrafluoromethane (CF4) with addition of hydrogen (H2) as a precursor. The aim of the work was the search of optimal conditions for a hydrophobic thin layer preparation on the surface of polymer NOA. The depositions were performed in continuous and pulsed mode with different duty cycle. The discharge was monitored using optical emission spectroscopy and in situ mass spectrometry. Thin films structure and properties were characterized using water contact angle measurements, X-ray photoelectron spectroscopy, infrared spectroscopy and optical ellipsometry. The influence of varying power, gas mixture composition and discharge mode were investigated. Water contact angle was the highest for a deposition in a continuous mode. Decomposition processes inside the reactor were observed by using mass spectrometry and optical emission spektrokopie. X-ray photoelectron spectroscopy provided information about the chemical bonds represented on the surface of sample. These were mainly C – C/C – H, C – O, O = C - O groups for sample without layer. Other chemical bonds were observed after the deposition. These were mainly C – CF, CF2 and CF3 groups. The film thickness of about 8,2 nanometers was measured by optical ellipsometry. The obtained results may be used as a fundament for further more advanced study of plasma chemically prepared thin fluorocarbon films and their properties.en
dc.description.markCcs
dc.identifier.citationVEVERKOVÁ, R. Plazmochemická depozice tenkých fluorocarbonových vrstev [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2011.cs
dc.identifier.other33412cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/6197
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta chemickács
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectPECVDcs
dc.subjectfluorokarbonycs
dc.subjectpolymer NOAcs
dc.subjectkontaktní úhelcs
dc.subjectvlastnosti tenké vrstvycs
dc.subjecthmotnostní spektrometriecs
dc.subjectPECVDen
dc.subjectfluorocarbonsen
dc.subjectNOA polymeren
dc.subjectcontact angleen
dc.subjectthin film propertiesen
dc.subjectmass spectrometryen
dc.titlePlazmochemická depozice tenkých fluorocarbonových vrstevcs
dc.title.alternativePlasma chemical deposition of thin fluorocarbone filmsen
dc.typeTextcs
dc.type.drivermasterThesisen
dc.type.evskpdiplomová prácecs
dcterms.dateAccepted2011-06-07cs
dcterms.modified2011-06-24-10:45:05cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta chemickács
sync.item.dbid33412en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2021.11.12 21:09:55en
sync.item.modts2021.11.12 20:35:37en
thesis.disciplineSpotřební chemiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. Ústav fyzikální a spotřební chemiecs
thesis.levelInženýrskýcs
thesis.nameIng.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 2 of 2
Loading...
Thumbnail Image
Name:
final-thesis.pdf
Size:
4.73 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
final-thesis.pdf
Loading...
Thumbnail Image
Name:
review_33412.html
Size:
11.41 KB
Format:
Hypertext Markup Language
Description:
review_33412.html
Collections