Vytváření tenkých kovových vrstev magnetronovým naprašovacím zařízením
| but.committee | prof. Ing. Jiří Kazelle, CSc. (předseda) doc. Ing. Arnošt Bajer, CSc. (místopředseda) Ing. Zdenka Rozsívalová (člen) doc. Ing. Petr Vyroubal, Ph.D. (člen) doc. Ing. Petr Křivík, Ph.D. (člen) | cs |
| but.defence | Popište princip magnetronového naprašování a uveďte jeho výhody, případně nevýhody vůči ostatním způsobům depozice tenkých vrstev. Jakých hodnot může nabývat urychlovací napětí? Vysvětlete princip prvkové analýzy. Jakým způsobem se řídí šířka naprášené vrstvy? Jaka maximální tloušťka vrstva může být naprášena? Student seznámil státní zkušební komisi s cíli a řešením závěrečné vysokoškolské práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta. | cs |
| but.jazyk | čeština (Czech) | |
| but.program | Elektrotechnika, elektronika, komunikační a řídicí technika | cs |
| but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
| dc.contributor.advisor | Strachala, Dávid | cs |
| dc.contributor.author | Rogozhnikova, Mariia | cs |
| dc.contributor.referee | Hylský, Josef | cs |
| dc.date.accessioned | 2019-04-03T22:48:34Z | |
| dc.date.available | 2019-04-03T22:48:34Z | |
| dc.date.created | 2017 | cs |
| dc.description.abstract | Tato bakalářská práce je zaměřena na popis magnetronového naprašovacího zařízení NP 12 pro depozici tenkých kovových vrstev. V práci je nejprve uvedena problematika kovových vrstev, následuje přehled metod jejich vytváření a popis magnetronového naprašování. V praktické části došlo k vytvoření manuálu k ovládání naprašovacího zařízení a poté k realizaci deseti vzorků. Naprášena byla měď, hliník a titan na skleněný a křemíkový substrát a zároveň byly zjištěny vhodné procesní parametry zařízení. V závěru práce došlo k vyhodnocení vzorků z hlediska rovinnosti povrchu a čistoty naprášených vrstev za pomocí AFM, SEM měření. | cs |
| dc.description.abstract | This bachelor’s thesis is focused on description of magnetron sputtering device NP 12 for the thin metal layers forming. In this work is mentioned the issue of metal layers, is given an overview of the methods of their forming and description of magnetron sputtering. Practical part of this thesis describes creation of the NP 12 sputtering device controlling instructions and creation of ten working samples. Copper, aluminum, and titanium layers were sputtered on a glass and silicon substrate bases. An appropriate processing parameters have been defined experimentally. The conclusion of this final work gives analyzes of surface flatness and purity of the sputtered layers using AFM and SEM measurements methods. | en |
| dc.description.mark | B | cs |
| dc.identifier.citation | ROGOZHNIKOVA, M. Vytváření tenkých kovových vrstev magnetronovým naprašovacím zařízením [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2017. | cs |
| dc.identifier.other | 103294 | cs |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/68273 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií | cs |
| dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
| dc.subject | Tenké kovové vrstvy | cs |
| dc.subject | metody vytvoření tenkých kovových vrstev | cs |
| dc.subject | magnetronové naprašování | cs |
| dc.subject | naprašovací zařízení | cs |
| dc.subject | procesní parametry | cs |
| dc.subject | AFM měření | cs |
| dc.subject | SEM měření. | cs |
| dc.subject | Thin films | en |
| dc.subject | methods of creating thin films | en |
| dc.subject | magnetron sputtering | en |
| dc.subject | magnetron sputtering device | en |
| dc.subject | appropriate processing parameters | en |
| dc.subject | AFM | en |
| dc.subject | SEM. | en |
| dc.title | Vytváření tenkých kovových vrstev magnetronovým naprašovacím zařízením | cs |
| dc.title.alternative | Deposition of thin metal layers by vacuum magnetron sputtering device | en |
| dc.type | Text | cs |
| dc.type.driver | bachelorThesis | en |
| dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
| dcterms.dateAccepted | 2017-06-20 | cs |
| dcterms.modified | 2017-06-21-07:39:05 | cs |
| eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií | cs |
| sync.item.dbid | 103294 | en |
| sync.item.dbtype | ZP | en |
| sync.item.insts | 2021.11.12 18:58:38 | en |
| sync.item.modts | 2021.11.12 18:22:41 | en |
| thesis.discipline | Mikroelektronika a technologie | cs |
| thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav elektrotechnologie | cs |
| thesis.level | Bakalářský | cs |
| thesis.name | Bc. | cs |