Vytváření tenkých kovových vrstev magnetronovým naprašovacím zařízením

Abstract

Tato bakalářská práce je zaměřena na popis magnetronového naprašovacího zařízení NP 12 pro depozici tenkých kovových vrstev. V práci je nejprve uvedena problematika kovových vrstev, následuje přehled metod jejich vytváření a popis magnetronového naprašování. V praktické části došlo k vytvoření manuálu k ovládání naprašovacího zařízení a poté k realizaci deseti vzorků. Naprášena byla měď, hliník a titan na skleněný a křemíkový substrát a zároveň byly zjištěny vhodné procesní parametry zařízení. V závěru práce došlo k vyhodnocení vzorků z hlediska rovinnosti povrchu a čistoty naprášených vrstev za pomocí AFM, SEM měření.This bachelor’s thesis is focused on description of magnetron sputtering device NP 12 for the thin metal layers forming. In this work is mentioned the issue of metal layers, is given an overview of the methods of their forming and description of magnetron sputtering. Practical part of this thesis describes creation of the NP 12 sputtering device controlling instructions and creation of ten working samples. Copper, aluminum, and titanium layers were sputtered on a glass and silicon substrate bases. An appropriate processing parameters have been defined experimentally. The conclusion of this final work gives analyzes of surface flatness and purity of the sputtered layers using AFM and SEM measurements methods.