Návrh aparatury pro VF plasmové leptání
| but.committee | prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen) | cs |
| but.defence | cs | |
| but.jazyk | čeština (Czech) | |
| but.program | Aplikované vědy v inženýrství | cs |
| but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
| dc.contributor.advisor | Mach, Jindřich | cs |
| dc.contributor.author | Bárdy, Stanislav | cs |
| dc.contributor.referee | Bábor, Petr | cs |
| dc.date.accessioned | 2019-11-27T20:13:16Z | |
| dc.date.available | 2019-11-27T20:13:16Z | |
| dc.date.created | 2014 | cs |
| dc.description.abstract | Táto bakalárska práca sa zaoberá návrhom aparatúry na vysokofrekvenčnú (VF) indukčne viazanú plazmu. V teoretickej časti je rešerne spracované čistenie grafénových povrchov plazmovým leptaním, ďalej sú popísané metódy generovania plazmového výboja a návrh VF elektrického obvodu. Praktická časť sa zaoberá samotnou konštrukciou aparatúry a vyrovnávacej jednotky, optickou diagnostikou plazmového výboja a meraním parametrov leptania PMMA (rýchlosť leptania, drsnosť) použitím spektroskopickej reflektometrie a mikroskopie atomárnych síl. | cs |
| dc.description.abstract | This bachelor's thesis deals with a design of an ICP (Inductively Coupled Plasma) apparatus. The theoretical part consists of a research of a plasmatic graphene surface cleaning. Next are described plasma generation methods and an RF circuit design. The experimental part deals with a construction of the ICP apparatus and the impedance matching box, an optical diagnostics of a plasma discharge and a measurement of PMMA etching parameters (etch rate, roughness) by a spectroscopic reflectometry and an atomic force microscopy. | en |
| dc.description.mark | A | cs |
| dc.identifier.citation | BÁRDY, S. Návrh aparatury pro VF plasmové leptání [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2014. | cs |
| dc.identifier.other | 70883 | cs |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/33300 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství | cs |
| dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
| dc.subject | indukčne budená plazma | cs |
| dc.subject | čistenie grafénu | cs |
| dc.subject | leptanie PMMA | cs |
| dc.subject | suché leptanie | cs |
| dc.subject | vyrovnávanie impedancií | cs |
| dc.subject | inductively coupled plasma | en |
| dc.subject | graphene cleaning | en |
| dc.subject | PMMA etching | en |
| dc.subject | dry etching | en |
| dc.subject | impedance matching | en |
| dc.title | Návrh aparatury pro VF plasmové leptání | cs |
| dc.title.alternative | Design of aparature for RF plasma etching | en |
| dc.type | Text | cs |
| dc.type.driver | bachelorThesis | en |
| dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
| dcterms.dateAccepted | 2014-06-25 | cs |
| dcterms.modified | 2014-06-26-14:01:14 | cs |
| eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta strojního inženýrství | cs |
| sync.item.dbid | 70883 | en |
| sync.item.dbtype | ZP | en |
| sync.item.insts | 2021.11.12 21:07:46 | en |
| sync.item.modts | 2021.11.12 19:54:56 | en |
| thesis.discipline | Fyzikální inženýrství a nanotechnologie | cs |
| thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrství | cs |
| thesis.level | Bakalářský | cs |
| thesis.name | Bc. | cs |