Využití oxidu yttria pro vytváření antireflexních vrstev solárních článků

Abstract

Tato práce se zabývá depozicí ytrium oxidových vrstev na křemíkový substrát (P- typ) metodou magnetronového i reaktivního magnetronového naprašování. V práci jsou popsány provedené experiment a jejich výsledky, dále se práce zaměřuje na metodiku vyhodnocení nadeponovaných vrstev pomocí spektrofotometrie a FTIR. Dosažené výsledky spolu s budoucím vývojem práce jsou potom konzultovány v závěru.This work deals with deposition of yttrium oxide layers on silicon substrate (P – type) by using magnetron and reactive magnetron sputtering. Experiments which were made are further described. After that, work is focused on evaluation of deposited layers by using FTIR measurement technique and spectrophotometry. At the end of the work results of experiments are discussed also with the future progress.