Automatické měření výšky a polohy depozice indukované iontovým svazkem v systémech FIB/SEM

Abstract

Táto práca využíva techniky spracovania obrazu pre návrh automatizovanej metódy kontroly výšky depozície v elektrónovej mikroskopii. Platine, uhlíku, volfrámu a kremíku sa upravili parametre depozície; kremíku sa venovala osobitná pozornosť z dôvodu neznámych stabilných parametrov. Na vytvorenie automatického postupu sa použil referenčný vzor a hybridný postup spracovania obrazu, ktorý kombinoval porovnávanie šablón, bilaterálne filtrovanie a histogram orientovaných sklonov. Na implementáciu riešenia sa použil Python, ktorý integroval proces vytvorenia depozície, automatické merania a vyhodnocovanie. Experimentálnym overením sa preukázala jeho presnosť, reprodukovateľnosť a odolnosť, čo je prínosom pre automatizáciu pracovného postupu v elektrónovej mikroskopii.

This thesis uses image processing techniques to propose an automated method for checking the deposition height in electron microscopy. Platinum, carbon, tungsten, and silicon had their deposition parameters adjusted; silicon was given special attention because of its unknown stability. A reference pattern and a hybrid image processing pipeline that combined template matching, bilateral filtering, and the Histogram of Oriented Gradients were used to create an automatic flow. Python was used to implement the solution, integrating the patterning process, automatic measurements, and evaluation. Improved precision, reproducibility, and resilience were shown by experimental validation, which advanced workflow automation in electron microscopy.