Pasivace povrchu germania metodou ALD
| but.committee | prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen) | cs |
| but.defence | cs | |
| but.jazyk | čeština (Czech) | |
| but.program | Aplikované vědy v inženýrství | cs |
| but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
| dc.contributor.advisor | Kolíbal, Miroslav | cs |
| dc.contributor.author | Kuba, Jakub | cs |
| dc.contributor.referee | Polčák, Josef | cs |
| dc.date.accessioned | 2019-04-03T22:34:58Z | |
| dc.date.available | 2019-04-03T22:34:58Z | |
| dc.date.created | 2014 | cs |
| dc.description.abstract | Práce se zabývá pasivací povrchu germania pomocí chemického leptání a metodou depozice atomárních vrstev (ALD). Sledována byla především rychlost oxidace povrchu germania a zastoupení jednotlivých oxidů germania po použití vybraných metod pasivace. Součástí práce je rešerše odstraňování nativních oxidů germania a stručný popis použitých metod využívaných pro analýzu (XPS) a depozici tenkých vrstev (ALD). | cs |
| dc.description.abstract | The thesis deals with passivation of germanium surfaces by chemical etching and atomic layer deposition (ALD). Attention was paid to the rate of oxidation of germanium surfaces after selected passivation methods and the composition of the germanium suboxides. In the thesis selected methods for germanium oxide removal are reviewed and a brief description of the methods used for analysis (XPS) and thin film deposition (ALD) is given. | en |
| dc.description.mark | A | cs |
| dc.identifier.citation | KUBA, J. Pasivace povrchu germania metodou ALD [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2014. | cs |
| dc.identifier.other | 72487 | cs |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/33388 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství | cs |
| dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
| dc.subject | Germanium | cs |
| dc.subject | Ge | cs |
| dc.subject | pasivace | cs |
| dc.subject | nativní oxidy | cs |
| dc.subject | rentgenová fotoelektronová spektroskopie | cs |
| dc.subject | systém pro depozici atomárních vrstev. | cs |
| dc.subject | Germanium | en |
| dc.subject | Ge | en |
| dc.subject | passivation | en |
| dc.subject | native oxides | en |
| dc.subject | X-ray photoelectron spectroscopy | en |
| dc.subject | atomic layer deposition. | en |
| dc.title | Pasivace povrchu germania metodou ALD | cs |
| dc.title.alternative | Passivation of germanium surface using ALD | en |
| dc.type | Text | cs |
| dc.type.driver | bachelorThesis | en |
| dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
| dcterms.dateAccepted | 2014-06-25 | cs |
| dcterms.modified | 2014-06-26-14:01:13 | cs |
| eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta strojního inženýrství | cs |
| sync.item.dbid | 72487 | en |
| sync.item.dbtype | ZP | en |
| sync.item.insts | 2021.11.12 09:04:17 | en |
| sync.item.modts | 2021.11.12 08:19:07 | en |
| thesis.discipline | Fyzikální inženýrství a nanotechnologie | cs |
| thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrství | cs |
| thesis.level | Bakalářský | cs |
| thesis.name | Bc. | cs |