Výroba nanostruktur na grafenu pomocí AFM mechanické litografie a pozorování jejich elektronické odezvy

Loading...
Thumbnail Image
Date
ORCID
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstract
Grafén je vďaka vysokej citlivosti na prítomnosť adsorbantov, nízkemu teplotnému šumu a biokompatibilite vhodným materiálom pre budúce senzory a biosenzory. Táto práca sa zaoberá laterálnym tvarovaním grafénu na SiO2 pomocou mechanickej litografie mikroskopom atomárnych síl. Takto vytvorené bariéry vykazujú odpor rádovo v stovkách G a sú použiteľné pre tvorbu nanosenzorov. Šírenie náboja je v práci študované pomocou súbežného merania Kelvinovej sondovej silovej mikroskopie a makroskopického transportného merania pri rôznych vlhkostiach, čo odpovedá reálnym podmienkam skutočných atmosférických, resp. v roztoku pracujúcich senzorov a biosenzorov.
Graphene is a suitable material for future sensors and biosensors due to its high sensitivity to the presence of adsorbents, low thermal noise, and biocompatibility. This work focuses on the lateral shaping of graphene on SiO2 using atomic force microscope-based mechanical lithography. The created barriers exhibit resistances on the order of hundreds of G and are applicable for nanosensor fabrication. Charge propagation is studied in this work through concurrent measurements of Kelvin probe force microscopy and macroscopic transport measurements at various humidities, corresponding to real conditions of atmospheric or solution-based sensors and biosensors.
Description
Citation
BELKO, P. Výroba nanostruktur na grafenu pomocí AFM mechanické litografie a pozorování jejich elektronické odezvy [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2023.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
bez specializace
Comittee
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) doc. Ing. Stanislav Průša, Ph.D. (člen) doc. Ing. Miroslav Kolíbal, Ph.D. (člen) doc. Mgr. Vlastimil Křápek, Ph.D. (člen) prof. Ing. Jan Čechal, Ph.D. (člen) doc. Ing. Miroslav Bartošík, Ph.D. (člen) doc. Ing. Radek Kalousek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)
Date of acceptance
2023-06-22
Defence
Po otázkách oponenta bylo dále diskutováno: Závislost měřeného odporu na vlhkosti a její reverzibilita. Student na otázky odpověděl.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení
DOI
Collections
Citace PRO